Вышедшие номера
Диэлектрическая проницаемость и проводимость пленок триглицинсульфата на подложках Al/SiO2 и alpha-Al2O3
Балашова Е.В.1, Кричевцов Б.Б.1, Леманов В.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: balashova@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 1 июня 2009 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2009 г.

Пленки триглицинсульфата (TGS) получены методом испарения из водного раствора на подложках из плавленого кварца, покрытых слоем термически напыленного алюминия (Al/SiO2), и подложках лейкосапфира (alpha-Al2O3), на поверхность которых методом фотолитографии были нанесены электроды в виде встречно-штыревой структуры. Пленки TGS имеют поликристаллическую структуру, состоящую из блоков с размерами 0.1-0.3 mm (Al/SiO2) и 0.1x1 mm (alpha-Al2O3). Полярная ось в блоках ориентирована в основном в плоскости подложки. Температурные зависимости емкости и диэлектрических потерь в направлении, перпендикулярном плоскости пленки, и в плоскости пленки имеют максимумы при температуре, совпадающей с температурой Tc сегнетоэлектрического фазового перехода в объемном кристалле. Низкочастотная проводимость G в структурах TGS/Al/SiO2 обладает частотной дисперсией, которая описывается зависимостью G~omegas (s~0.82). Возможным механизмом проводимости является прыжковая проводимость, обусловленная локализованными носителями с энергией основного состояния 0.8-0.9 eV. В пленках TGS/alpha-Al2O3 при температурах выше и ниже Tc низкочастотная проводимость обусловлена термоактивационным механизмом с энергией активации 0.9-1 eV. В области фазового перехода в структурах TGS/alpha-Al2O3 появляется дополнительный вклад в проводимость, характеризующийся частотной дисперсией G~omega0.5, который можно связать с релаксацией доменных стенок. Работа выполнена при финансовой поддержке РФФИ (проекты N 07-02-01286 и 08-02-00112).
  1. M. Dawber, K.M. Rabe, J.F. Scott. Rev. Mod. Phys. 77, 1083 (2005)
  2. S. Ducharme, S.P. Palto, V.M. Fridkin. In: Ferroelectric and Dielectric thin films / Ed. H.S. Nalwa. Academic, San Diego (2002). 545 p
  3. B.T. Matthias, C.E. Miller, J.P. Remeika. Phys. Rev. 104, 849 (1956)
  4. R.B. Lal, A.K. Batra. Ferroelectrics 142, 51 (1993)
  5. N. Neumann. Ferroelectrics 142, 83 (1993)
  6. Cz. Pawlaczyk. Ferroelectrics 140, 127 (1993)
  7. А.В. Шильников, Л.А. Шувалов, В.А. Федорихин, А.П. Поздняков, А.В. Сопит. ФТТ 41, 1073 (1999)
  8. Л.Г. Брадулина, А.М. Лотонов, Н.Д. Гаврилова. Неорган. материалы 37, 607 (2001)
  9. А.В. Шильников, В.А. Федорихин, Б.А. Струков, Н.В. Ратина. Кристаллография 49, 508 (2004)
  10. А.М. Лотонов, В.К. Новик, Н.Д. Гаврилова. ФТТ 48, 969 (2006)
  11. В.К. Ярмаркин, С.Г. Шульман, Г.А. Панкова, Н.В. Зайцева, В.В. Леманов. ФТТ 50, 897 (2008)
  12. В.В. Гладкий, В.А. Кириков, Е.С. Иванова. ФТТ 39, 353 (1997)
  13. А.М. Лотонов, В.К. Новик, Н.Д. Гаврилова. ФТТ 49, 1268 (2007)
  14. О.М. Голицина, Л.Н. Камышева, С.Н. Дрождин. ФТТ 40, 116 (1998)
  15. P. Wurfel, I.P. Batra, J.T. Jacobs. Phys. Rev. Lett. 30, 1218 (1973)
  16. P. Wurfel, I.P. Batra. Phys. Rev. B 8, 5126 (1973)
  17. З.Д. Стеханова, О.Б. Яценко, С.Д. Миловидова, А.С. Сидоркин, О.В. Рогазинская. ЖПХ 78, 45 (2005)
  18. G.S. Kino, R.S. Wagers. J. Appl. Phys. 44, 1480 (1973)
  19. E.V. Balashova, B.B. Krichevtsov, V.V. Lemanov. J. Appl. Phys. 104, 126 104 (2008)
  20. Е.В. Балашова, Б.Б. Кричевцов, В.В. Леманов. ФТТ 51, 525 (2009)
  21. G.E. Pike. Phys. Rev. B 6, 1572 (1972)
  22. S.L. Hutton, I. Fehst, R. Bohmer, M. Braune, B. Mertz, P. Lunkenheimer, A. Loidl. Phys. Rev. Lett. 66, 1990 (1991)
  23. И.А. Малышкина. Неорган. материалы 38, 380 (2002)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.