Исследованы структура, электро- и магнитотранспортные параметры эпитаксиальных пленок La0.67Ba0.33MnO3 толщиной 20 nm, выращенных методом лазерного испарения на подложках (001)LaAlO3. Объем элементарной ячейки Veff=58.80 Angstrem3 выращенных манганитных пленок был меньше соответствующего объема для массивных кристаллов La0.67Ba0.33MnO3. Максимальные значения отрицательного магнетосопротивления MR(mu0H=1 T)=-0.27 пленок La0.67Ba0.33MnO3 наблюдались при температуре порядка 225 K. При 5<T<100 K магнетосопротивление пленок слабо зависело от температуры и составляло порядка -0.1. При температурах ниже 100 K и 3<mu0H<5 T электросопротивление выращенных пленок линейно убывало с ростом напряженности магнитного поля. Финансовая поддержка для проведения настоящих исследований была частично получена из проекта NMP3-CT-2006-033191 Европейской программы FP6, Государственного контракта ФАНИ N 02.513.11.3332 и проекта МНТЦ N 3743. PACS: 73.43.Qt, 73.50.-h
M. Pannetier, C. Fermon, G. Le Goff, J. Simola, E. Kerr. Science 304, 5677, 1648 (2004)
A. Goyal, M. Rajeswari, R. Shreekala, S.E. Lofland, S.M. Bhagat, T. Boettcher, C. Kwon, R. Ramesh, T. Venkatesan. Appl. Phys. Lett. 71, 17, 2535 (1997)
H.L. Ju, J. Gopalakrishnan, J.L. Peng, Qi Li, G.C. Xiong, T. Venkatesan, R.L. Greene. Phys. Rev. B 51, 9, 6143 (1995)
T.I. Kamins. J. Appl. Phys. 42, 9, 4357 (1971)
M. Bibes, S. Valencia, L. Balcells, B. Martinez, J. Fontcuberta, M. Wojcik, S. Nadolski, E. Jedryka. Phys. Rev. B 66, 13, 134 416 (2002).
P. Dai, J. Zhang, H.A. Mook, S.-H. Liou, P.A. Dowben, E.W. Plummer. Phys. Rev. B 54, 6, R3694 (1996)
C. Zuccaro, M. Winter, N. Klein, K. Urban. J. Appl. Phys. 82, 11, 5695 (1997)
Yu.A. Boikov, R. Gunnarsson, T. Claeson. J. Appl. Phys. 96, 1, 435 (2004)
Ю.А. Бойков, В.А. Данилов. ФТТ 49, 8, 1451 (2007)
J. Zhang, H. Tanaka, T. Kanki, J.-H. Choi, T. Kawai. Phys. Rev. B 64, 18, 184 404 (2001)
K. Kubo, N. Ohata. J. Phys. Soc. Jpn. 33, 1, 21 (1972)
B. Raquet, M. Viret, J.M. Broto, E. Sondergard, O. Cespedes, R. Many. J. Appl. Phys. 91, 10, 8129 (2002)
H.S. Wang, E. Wertz, Y.F. Hu, Qi Li. J. Appl. Phys. 87, 9, 6749 (2000).