К.Л. Чопра. Электрические явления в тонких пленках. Мир, М. (1972). 435 с
A. Kiesowa, J.E. Morris, C. Radehaus, A. Heilmann. J. Appl. Phys. 94, 10, 6988 (2003)
A. Kapitulnik, G. Deutscher. Phys. Rev. Lett. 49, 19, 1444 (1982)
S. Wagner, A. Pundt. Phys. Rev. B 78, 155 131 (2008)
Б.И. Шкловский, А.Л. Эфрос. Электронные свойства легированных полупроводников. Наука, М. (1979). 416 с
Э.И. Точицкий. Кристаллизация и термообработка тонких пленок. Наука и техника, Минск (1978). 376 с
K.H. Ernst, A. Ludviksson, R. Zhang, C.N. Campbell. Phys. Rev. B 47, 20, 13 782 (1993)
Ю.С. Бараш. Силы Ван-дер-Ваальса. Наука, М. (1988). 344 с
W.W. Mullins. J. Appl. Phys. 28, 3, 333 (1957)
В.В. Климов. Наноплазмоника. Физматлит, М. (2009). 264 с
В.М. Иевлев, Л.И. Трусов, В.А. Холмянский. Структурные превращения в тонких пленках. Металлургия, М. (1988). 325 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.