"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Многоволновый электроразрядный излучатель на системе полос lambda=308 nm XeCl(B-X)/258 nm Cl2(D'-A')/ 236 nm XeCl(D-X)/ 222 nm KrCl(B-X)/ 175 nm ArCl(B-X)/160 nm H2(B-X)
Шуаибов А.К.1, Шимон Л.Л.1, Дащенко А.И.1, Шевера И.В.1
1Ужгородский государственный университет, Ужгород, Украина
Email: ishev@univ.uzhgorod.ua
Поступила в редакцию: 31 марта 2000 г.
Выставление онлайн: 20 января 2001 г.

Приведены результаты оптимизации характеристик УФ--ВУФ излучателя на хлоридах тяжелых инертных газов и молекулах хлора. Возбуждение рабочих смесей Ar/Kr/Cl2 и Ar/Kr/Xe/Cl2 (HCl) происходило в поперечном объемном разряде с искровой предыонизацией при P=1... 30 kPa. Исследовались спектры излучения плазмы многокомпонентной активной среды, зависимости интенсивности излучения разряда от давления и состава газовых смесей, величины зарядного напряжения и количества разрядных импульсов. Показано, что данный разряд является источником излучения на полосах lambda=308/256/236/222/175/160 nm. Для одновременного получения примерно равных величин интенсивности полос излучения XeCl(B,D-X), Cl2(D'-A'), KrCl(B-X), ArCl(B-X) и H2(B-X) в области 160...308 nm оптимальными были смеси: [Ar]=1...20 kPa, [Kr, Xe]=0.4...0.6 kPa, [Cl2]=0.2...0.4 kPa, [HCl]=0.08 kPa и [H2]=0.5...1.0 kPa. Добавки молекул H2 приводят к падению интенсивности эксимерных полос, увеличению ресурса работы (<=104 импульсов) и расширению диапазона работы источника за счет полос Лаймана H2 (lambda=158...161 nm).
  • Gerber T., Luthy W., Burkhard P. // Opt. Commun. 1980. Vol. 35. P. 242--244
  • Коваль Б.А., Скакун В.С., Тарасенко В.Ф., Фомин Е.А. // ПТЭ. 1992. N 4. С. 244--245
  • Борисов В.М., Водчиц В.А. и др. // Квантовая электрон. 1998. Т. 25. С. 308--312
  • Баранов В.Ю., Борисов В.М., Степанов Ю.Ю. Электроразрядные эксимерные лазеры на галогенидах инертных газов. М.: Энергоатомиздат, 1988. 216 с
  • Kogelshanz U., Esrom H. // Laser and Optoelectronik. 1990. Vol. 22. P. 55--59
  • Басов Ю.Г. Источники накачки микросекундных лазеров. М.: Энергоатомиздат, 1990. 240 с
  • Шуаибов А.К., Шимон Л.Л., Шевера И.В. // ПТЭ. 1998. N 3. С. 142--144
  • Шуаибов А.К., Шимон Л.Л., Шевера И.В., Миня О.Й. // J. Phys. Studies. 1999. Т. 3. N 2. P. 157--163
  • Шуаибов А.К. // ТВТ. 1998. Т. 36. С. 508--510
  • Шуаибов А.К. // ЖТФ. 1998. Т. 68. Вып. 12. С. 64--67
  • Шуаибов А.К., Шимон Л.Л., Дащенко А.И. и др. // Письма в ЖТФ. 1999. Т. 25. Вып. 11. С. 29--34
  • Асиновский Э.И., Василяк Л.М., Марковец В.В. // ТВТ. 1983. Т. 21. С. 371--381
  • Абрамов А.Г., Асиновский Э.И., Василяк Л.М. // Физика плазмы. 1988. Т. 14. С. 979--986
  • Славин Б.Б., Сопин П.И. // ТВТ. 1992. Т. 30. С. 1--11
  • Piper L.G., Setser D.W. // J. Chem. Phys. 1975. Vol. 63. P. 5018--5028
  • Chen C.H., Judisch J.P., Payne M.G. // J. Phys. B: Atom. Molec. Phys. 1978. Vol. 11. P. 2189--2199
  • Galy J., Aoume K., Birot A., Brunet H. et al. // J. Phys. B. 1993. Vol. 26. P. 477--488
  • Cook J.D., Leicher P.K. // Phys. Rev. A. 1985. Vol. 31. P. 90--98
  • Cook J.D., Leicher P.K. // Phys. Rev. A. 1991. Vol. 43. P. 1614--1617
  • Фланнери М.Р. // Газовые лазеры / Под ред. И. Мак-Даниеля, У. Нигэна. М.: Мир, 1986. С. 177--215
  • Гордон Е.Б., Егоров В.Г., Михкельлсон В.Т. и др. // Квантовая электрон. 1988. Т. 15. С. 285--288
  • Пеэт В.Э., Сливинский Е.В., Трещалов А.Б. // Квантовая электрон. 1990. Т. 17. С. 438--443
  • Врублевский Э.М., Гусев А.В., Жидков А.Г. и др. // Химия высоких энергий. 1990. Т. 24. С. 356--361
  • McKee T.J., James D.J., Nip W.S. et al. // Apl. Phys. Lett. 1980. Vol. 36. P. 943--945
  • Лавров Б.П., Мельников А.С. // Опт. и спектр. 1998. Т. 85. С. 729--734
  • Бункин Ф.В., Держиев В.И., Юровский В.А., Яковленко С.И. // Квантовая электрон. 1986. Т. 13. С. 1828--1836
  • Панчешный С.В., Стариковская С.М., Стариковский А.Ю. // Физика плазмы. 1999. Т. 25. С. 435--440
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.