Исследованы аморфные пленки оксида тантала, осажденные на титановую подложку методом магнетронного реактивного распыления. Установлено, что отжиг при температурах выше 600oC приводит к кристаллизации пленок с образованием фазы beta-Ta2O5. При термообработке в воздушной атмосфере подложка окисляется с образованием диоксида титана в модификации рутила.
Моргунов М.С., Муждаба В.М., Таиров В.Н. и др. // ФТТ. 1983. Т. 25. N 11. С. 3431--3436
Ефашкин Г.В., Чепуров А.К. // Электретный эффект и электрическая релаксация. М.: МИЭМ, 1979. С. 226--237
Wang Z., Wang J., Xia Z. et al. // Proc. 9-=SUP=-th-=/SUP=- Int. Symp. on Electrets IEEE Report (ISE 9). 1996. P. 784--787
Jiang J., Cui L., Song C. et al. // Proc. 10-=SUP=-th-=/SUP=- Int. Symp. on Electrets IEEE Report (ISE 10). 1999. P. 171--173
Silva R.A., Walls M., Rondot B. et al. // J. Mater. Sci.: Mater. Med. 2002. V. 13. N 5. P. 495
Matsuno H., Yokoyama A., Watari F. et al. // Biomat. 2001. V. 22. N 11. P. 1253
Рид С. Электронно-зондовый микроанализ. М.: Мир, 1979. 424 с
Fu Z.-W., Chen L.-Y., Qin Q.-Z. // Thin Solid Films. 1999. V. 340. N 1--2. P. 164
Ozer N. // J. Sol-Gel Sci. and Tech. 1997. V. 8. N 1/2/3. P. 703
Ghodsi F.E., Tepehan F.Z., Tepehan G.G. // Thin Solid Films. 1997. V. 295. N 11
Kukli K., Aarik J., Aidla A. et al. // Thin Solid Films. 1995. V. 260. P. 135
Kukli K., Ritala M., Matero R. et al. // J. Crystal Growth. 2000. V. 212. N 3--4. P. 459
Franke E., Schubert M., Trimble C.L. et al. // Thin Solid Films. 2001. V. 388. N 1--2. P. 283
Beckage P.J., Knorr D.B., Wu X.M. // J. Mater. Sci. (full set). 1998. V. 33. N 17. P. 4375
Peng-Heng Chang, Hung-Yu Liu. // Thin Solid Films. 1995. V. 258. P. 56
Pignolet A., Rao G.M., Krupanidhi S.B. // Thin Solid Films. 1995. V. 258. P. 230.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.