Вышедшие номера
Эволюция вторичной плазмы в ускоряющем промежутке плазменных источников электронов при повышенном давлении
Груздев В.А.1, Залесский В.Г.1
1Полоцкий государственный университет, Новополоцк, Витебская область, Белоруссия
Поступила в редакцию: 3 мая 1995 г.
Выставление онлайн: 19 июня 1996 г.

Рассмотрена эволюция вторичной плазмы в ускоряющем промежутке плазменного источника электронов в приближениях длинного и короткого эмиссионного канала. На основе численного анализа предложенных моделей показана возможность ''коллапса'' вторичной плазмы, ограниченной пристеночным ионным слоем в эмиссионном канале, чем может быть обусловлена модуляция тока эмиссии. Сделаны сравнительные оценки амплитудных значений плотности тока и других параметров.
  1. Галанский В.Л., Груздев В.А. ЖТФ. 1990. Т. 60. Вып. 4. С. 168--170
  2. Жаринов А.В., Коваленко Ю.А. ЖТФ. 1986. Т. 56. Вып. 4. С. 681--687
  3. Крейндель Ю.Е., Никулин С.П. ЖТФ. 1988. Т. 58. Вып. 6. С. 1208--1209
  4. Царев Б.М. Расчет и конструирование электронных ламп. М.: Энергия, 1967. 671 с
  5. Завьялов М.А., Крейндель Ю.Е., Новиков А.А., Шантурин Л.П. Плазменные процессы в технологических электронных пушках. М.: Энергоатомиздат, 1989. 256 с
  6. Гусева Г.И., Завьялов М.А. Физика плазмы. 1983. Т. 9. N 4. С. 770--778
  7. Галанский В.Л., Груздев В.А., Ильюшенко В.В. ЖТФ. 1993. Т. 63. Вып. 4. С. 58--67

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.