Поведение постоянного потенциала плазмы в ВЧ разряде низкого давления
Лисовский В.А.1, Красников О.В.1
1Научный физико-технологический центр Харьковский государственный университет Харьков
Поступила в редакцию: 14 августа 1994 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1995 г.
- Flamm D.L., Donneley V.M., Ibbotson D.E. J. Vac. Sci. Technol. 1983. V. B1. P. 23
- Coburn J. Plasma Chem. Plasma Process. 1982. V. 2. P. 1
- Яценко Н.А. Инж.-физ. журн. 1992. Т. 62. С. 739
- Левитский С.М. ЖТФ. 1957. Т. 27. С. 970, 1001
- Sabadil H., Klagge S., Kammeyer M. Plasma Chem. Plasma Process. 1988. V. 8. P. 425
- Kaneda T., Kubota T., Ohuchi M., Jen-Shis Chang. J. Phys. D. 1990. V. 23. P. 1642
- Кузовников А.А., Савинов В.П. Вестн. МГУ. Сер. 3. Физика, астрономия. 1973. N 2. С. 215
- Яценко Н.А. ЖТФ. 1981. Т. 51. С. 1195
- Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987. 592 с
- Block L.P. Astrophysics and Space Science. 1978. V. 55. P. 59
- Лисовский В.А., Егоренков В.Д., Красников О.В. Письма в ЖТФ. 1993. Т. 19. В. 21. С. 90
- Johnson J.C., D'Angelo N., Merlino R.L. J. Phys. D. 1990. V. 23. P. 682
- Smith D., Goodall C.V., Adams N.G., Dean A.G. J. Phys. B. 1970. V. 3. P. 34
- Kaganovich I.D., Tsendin L.D. IEEE Trans. Plasma Sci. 1992. V. 20. P. 66
- Selwyn G.S., Singh J., Bennett R.S. J. Vac. Sci. Technol. 1989. V. A7. P. 2758
- Selwyn G.S., Heidenreich J.E., Haller K.L. Appl. Phys. Lett. 1990. V. 57. P. 1876
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук