Журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Механизм высокочастотного распыления сложных оксидов
1Институт общей физики РАН, Москва, Россия 
Поступила в редакцию: 14 апреля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1998 г.
Приведены новые экспериментальные данные о механизмах роста многокомпонентных пленок Pb(Zr,Ti)O3, (Ba,Sr)TiO3 и Y-Ba-Cu-O в плазме высокочастотного разряда. При исследовании пространственного распределения интенсивности излучения распыленных частиц в высокочастотной плазме при осаждении пленок этих сложных оксидов в эпитаксиальном состоянии выявлены общие закономерности транспорта их от мишени к подложке, обусловленные особенностями отрицательного свечения высокочастотного разряда. Рассмотрена роль внешних и внутренних параметров с точки зрения описания механизмов гетероэпитаксиального роста сложных оксидов.
- Мухортов В.М., Толмачев Г.Н., Мащенко А.И. // ЖТФ. 1993. Т. 63. Вып. 11. С. 135--142
- Мухортов В.М., Толмачев Г.Н., Мащенко А.И. и др. // ЖТФ. 1992. Т. 62. Вып. 5. С. 22--28
- Murhortov V.M., Golovko Yu.I., Aleshin V.A. et al. // Phys. Stat. Sol. (a). 1983. Vol. 78. P. 253--257
- Козлов О.В. Электрический зонд в плазме. М.: Атомиздат, 1969. 291 с
- Хасилев В.Я., Михалевский В.С., Толмачев Г.Н. // Физика плазмы. 1980. Т. 6. N 2. С. 430--435
- Мак-Даниель И. Процессы столкновений в ионизованных газах. М.: Мир, 1967. 162 с
- Katayama T., Koshizuka N., Kitaguchi T. et al. // IEEE Trans. J. Magn. Jap. 1989. Vol. 4. P. 244--249
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
