Вышедшие номера
Определение потенциала поверхности диэлектрического слоя на мишени, бомбардируемой ионным пучком
Бондаренко Г.Г.1, Бажин А.И.1, Коржавый А.П.1, Кристя В.И.1, Аитов Р.Д.1
1Московский государственный институт электроники и математики, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 25 февраля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1998 г.

Рассчитано электрическое поле у поверхности зарядного пятна, создаваемого ионным пучком на диэлектрическом покрытии мишени. Получено выражение, связывающее потенциал поверхности диэлектрика с потенциалом коллектора, при котором происходит насыщение коллекторного тока вторичных электронов. Оно позволяет определить падение потенциала на оксидном слое холодного катода без усложнения конструкции экспериментальной установки.
  1. Добрецов Л.Н., Гомоюнова М.В. Эмиссионная электроника. М.: Наука, 1966. 564 с
  2. Аитов Р.Д., Коржавый А.П., Кристя В.И. // Обзоры по электронной технике. Сер. 6. 1991. Вып. 5. С. 1--47
  3. Упатов В.Я. // РиЭ. 1957. Т. 2. N 2. С. 184--192
  4. Крютченко О.Н., Чижиков А.Е. // Электронная техника. Сер. 4. 1987. N 4. С. 62--65
  5. Ибрагимов А. // ЖТФ. 1984. Т. 54. Вып. 2. С. 401--403
  6. Крютченко О.Н., Маннанов А.Ф., Носов А.А. и др. // Поверхность. 1994. N 6. С. 93--99
  7. Серебров Л.А., Фридрихов С.А. // РиЭ. 1960. Т. 5. N 10. С. 1680--1686
  8. Упатов В.Я. // РиЭ. 1994. Т. 39. N 6. С. 967--974
  9. Кирштейн П.Т., Кайно Г.С., Уотерс У.Е. Формирование электронных пучков. М.: Мир, 1970. 600 с
  10. Kanter H., Feibelman W.A. // J. Appl. Phys. 1962. Vol. 33. N 12. P. 3580--3588

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.