Исследованы морфологии структуры и магнитные свойства тонких пленок FeTaN с высоким содержанием Ta (10 wt.%), синтезированных отжигом соединений, осажденных методом реактивного радиочастотного магнетронного распыления в газовой смеси Ar + N. Установлены зависимости свойств пленок FeTaN от содержания в них азота и температуры отжига. Определены режимы осаждения и термической обработки соединений FeTaN, при которых синтезируются наноструктурные тонкие пленки FeTaN с высокими магнитомягкими характеристиками \Bs=1.6 T, Hc=0.2 Oe и mu1(1 MHz)=3400\. Работа выполнена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 02-02-39006) и Национального фонда науки Китая.
X. Sui, M.H. Kryder. Appl. Phys. Lett. 63, 1582 (1993)
T. Kiyomura, Y. Maruo, M. Gomi. J. Appl. Phys. 88, 4768 (2000)
B.Y. Wong, X. Sui, D.E. Laughlin, M.H. Kryder. J. Appl. Phys. 75, 5966 (1994)
O. Kohomoto. IEEE Trans. Magn., MAG-27, 3640 (1991)
S. Wang, M.H. Kryder. J. Appl. Phys. 69, 5625 (1991)
D. Zheng, Y. Ma, D.Wu, T. Xie, F. Wei, Z. Yang. Phys. Stat. Sol. (a) 193, 61 (2002). B. Ma, F.L. Wei, X.X. Liu, C.T. Xiao, Z. Yang. Mater. Sci. Eng. B 57, 96 (1999)
R.D. Pehkle, F. Elliott. IEEE Trans 218, 1088 (1960)
K. Nakauishi, O. Shimiz, S. Yoshida. IEEE Trans. Magn., MAG-28, 7128 (1992)
W.C. Chang, D.C. Wu, J.C. Lin, C.J. Chen. J. Appl. Phys. 79, 5159 (1996)
M.K. Minor, B. Viala, J.A. Barnard. J. Appl. Phys. 79, 5005 (1996)
Y. Ma, X. Li, T. Xie, F. Wei, Z. Yang. Mater. Sci. Eng. B 103, 233 (2003)
F. Chen, Z. Zhigan, Z. Xu, C. Liao, C. Yan. Thin Solid Films 339, 109 (1999)
S.A. Chambers, R.F.C. Farrow, S. Maat, M.F. Toney, L. Folks, J.G. Catalano, T.P. Trainor, G.E. Brown. Jr. J. Magn. Magn. Mater. 246, 124 (2002)
K.H.J. Buschow. Handbook of Magnetic Materials. Vol. 10. D. Elesevier Science (1997). P. 433
G. Herzer. IEEE Trans. Magn. 26, 1937 (1990)
N. Hasegawa, M. Saito. IEEE Trans. Magn. Japan, MAG-6, 91 (1991)