"Письма в журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Контактная стабильность молекул C60 на чистой и легированной поверхности (100) вольфрама
Галль Н.Р.1, Рутьков Е.В.1, Тонтегоде А.Я.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: gall@ms.ioffe.rssi.ru
Поступила в редакцию: 25 сентября 2001 г.
Выставление онлайн: 20 января 2002 г.

Впервые обнаружено влияние легирования поверхности металла на контактную стабильность адсорбированных молекул фуллеренов при комнатной температуре. Молекулы C60 при комнатной температуре разлагаются на чистой поверхности (100) вольфрама и на поверхности вольфрама, содержащей поверхностный карбид состава WC, однако поверхностный силицид той же стехиометрии (WSi) пассивирует поверхность, предохраняя молекулы фуллеренов от разложения.
  • Katz E.A. Abstract of IWFAC-2001. СПб. Изд. ФТИ им. А.Ф. Иоффе РАН, 2001. P. 18
  • Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya., Usufov M.M. // Fullerene Science and technology. 1998. V. 6. N 4. P. 721--727
  • Gall N.R., Mikhailov S.N., Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya. // Surface Science. 1987. V. 191. P. 185--202
  • Gall N.R., Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya, Kuznetsov P.B., Gall R.N. // Journal of Chemical Vapor Deposition. 1997. V. 6. N 7. P. 72--75
  • Агеев В.Н., Афанасьева Е.Ю., Галль Н.Р., Михайлов С.Н., Рутьков Е.В., Тонтегоде А.Я. // Поверхность. 1987. N 5. С. 7--14
  • Gall N.R., Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya. // International Journal of Modern Phys. B. 1997. V. 11. N 16. P. 1865--1911
  • Галль Н.Р., Рутьков Е.В., Тонтегоде А.Я. // Изв. РАН. Сер. Физ. 1998. Т. 62. N 10. С. 1980--1983
  • Kelly D.G., Salmeron M., Somorjai G.A. // Surf. Sci. 1986. V. 175. N 3. P. 465--486
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.