Вышедшие номера
Совместное функционирование магнетронной распылительной системы и ионного источника на основе торцевого холловского ускорителя
Голосов Д.А., Eungsun Byon, Завадский С.М.1
1Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Минск, Беларусь
Email: dmgolosov@gmail.com
Поступила в редакцию: 28 ноября 2013 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2014 г.

Проведены исследования особенностей совместной работы магнетронной распылительной системы (МРС) с ионным источником на основе торцевого холловского ускорителя (ТХУ). Отмечено, что при включении разряда магнетрона происходит частичная или полная нейтрализация ионного пучка, генерируемого ТХУ, т. е. при определенных режимах МРС ионный источник функционирует в безнакальном режиме. В данном случае разряд магнетрона является источником электронов, необходимых для поддержания разряда и компенсации ионного пучка ТХУ. Установлены зависимости разрядных характеристик ТХУ и МРС при использовании для компенсации ионного пучка ТХУ накального нейтрализатора и разряда МРС. На основе анализа совместной работы МРС и ТХУ рассмотрен баланс токов системы ионный источник-магнетронная распылительная система. Показано, что максимальный ток разряда ионного источника, при котором сохраняется условие скомпенсированности разряда, зависит от несбалансированности и тока разряда магнетрона.
  1. Arnell R.D., Kelly P.J. // Surf. Coat. Technol. 1999. Vol. 112. p. 170--176
  2. Svadkovski I.V., Golosov D.A., Zavatskiy S.М. // II Intern. Sympos. of New Electrical and Electronic Technologies and Their Industrial Implementation NEET' 2001. Kazimierz Dolny, Poland, February, 14--17, 2001. P. 217--221
  3. Svadkovski I.V., Eungsun Byon, Gun-Hwan Lee, Golosov D.A., Sang-Jo Jeon, Young-Shin Kim // Interfinish 2008 17-th Word congress \& Exposition. Busan, Korea, June 16--19, 2008. P. GO-27
  4. Свадковский И.В. Ионно-плазменные методы формирования тонкопленочных покрытий: Монография / Под ред. А.П. Достанко. Минск: Беспринт, 2002. 214 с
  5. Svadkovski I.V., Golosov D.A., Zavatskiy S.М. // Vacuum. 2002. Vol. 68. N 4. P. 283--290
  6. Голосов Д.А., Свадковский И.В., Завадский С.М. Матер. VI Междунар. конф. по модификации материалов пучками частиц и плазменными потоками. Томск, Россия, 23--28 сент. 2002 г. C. 148--150
  7. Голосов Д.А., Свадковский И.В., Завадский С.М. // Электронная обработка материалов. 2002. N 6. C. 66--74
  8. Kelly P.J., Arnell R.D. // Surf. Coat. Technol. 1998. Vol. 108--109. P. 317--322
  9. Kaufman H.R., Robinson R.S., Seddon R.I. End-Hall Ion Source // J. Vac. Sci. Technol. A. 1987. Vol. AS. P. 2081--2084
  10. Достанко А.П., Голосов Д.А. // ЖТФ. 2009. Т. 79. Вып. 10. С. 59--64

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.