Вышедшие номера
Механизм переноса тока в инжекционном фотоприемнике на основе структуры M(In)-n-CdS-p-Si-M(In)
Мирсагатов Ш.А.1, Сапаев И.Б.1
1Физико-технический институт НПО ”Физика−Солнце“ Академии наук Республики Узбекистан, Ташкент, Узбекистан
Email: mirsagatov@uzsci.net
Поступила в редакцию: 16 сентября 2014 г.
Выставление онлайн: 20 марта 2015 г.

Проведен анализ механизма переноса тока в новом типе селективного (с перестраиваемым спектром) инжекционного фотоприемника с внутренним усилением на основе структуры M(In)-n-CdS-p-Si-M(In). Показано, что в этой структуре происходит взаимная компенсация встречных дрейфовых и диффузионных потоков носителей заряда. Встречные дрейфовые и диффузионные потоки неравновесных носителей при плотностях обратного тока I~10-8-10-7 A/cm2 приводят к появлению точек инверсии знака фоточувствительности в коротковолновой и в длинноволновой областях спектра. Взаимная компенсация встречных дрейфовых и диффузионных потоков при плотностях тока порядка ~10-6 A/cm2 приводит к появлению сублинейного участка на обратной вольт-амперной характеристике в широком диапазоне напряжений смещения. Установлено, что гетеропереход n-SdS-p-Si имеет низкую плотность поверхностных состояний и это позволяет получить на основе рассматриваемой структуры инжекционный фотоприемник с высокой спектральной (Slambda=5.0·104 A/W) и интегральной (Sint=2.8·104 A/lm или 4.5·106 A/W) чувствительностью в прямом направлении тока.
  1. И.М. Колдаев, В.В. Лосев, Б.М. Орлов. ФТП 18, 1316 (1984)
  2. Ш.А. Мирсагатов, А.К. Утениязов. Письма в ЖТФ 38, 1, 70 (2012)
  3. Ш.А. Мирсагатов, Р.Р. Кабулов, М.А. Махмудов. ФТП 47, 6, 815 (2013)
  4. Ш.А. Мирсагатов, О.К. Атабоев, Б.Н. Заверюхин. Физ. инженерия поверхности 11, 1, 4 (2013)
  5. А.С. Саидов, А.Ю. Лейдерман, Ш.Н. Усмонов, К.Т. Холиков. ФТП 43, 4, 436 (2009)
  6. А. Милнс, Д. Фойхт. Гетеропереходы и переходы металл--полупроводник / Под ред. В.С. Вавилова. Мир, М. (1975). 425 с
  7. И.Б. Сапаев. ДАН Узбекистана 2, 27 (2013)
  8. Э. Фриш.Оптические методы измерений. Изд-во ЛГУ, Л. (1976). Ч. I. 392 c
  9. В.И. Фистуль. Физика и химия твердого тела. Металлургия, М. (1995). Т. 1, 2
  10. http://zaz.gendocs.ru/docs/2800/index-1621226.html
  11. A.M. Lampert, P. Mark. Current injection in solids. Academic Press, N.Y.--London (1970). 416 p
  12. Э.И. Адирович, П.М. Карагеоргий-Алкалаев, А.Ю. Лейдерман. Токи двойной инжекции в полупроводниках. Сов. радио, М. (1978). 126 с
  13. П.М. Карагеоргий-Алкалаев, А.Ю. Лейдерман. Фоточувствительность полупроводниковых структур с глубокими примесями. Фан, Ташкент (1981). 200 c
  14. S.M. Sze. Physics of semiconductor devices. John Wiley and Sons, N.Y.--Chichester--Brisbane--Toronto--Singapore (1981). V. 1. 386 p
  15. В.Г. Георгиу. Вольт-фарадные измерения параметров полупроводников. Штиинца, Кишинев (1987) С. 15
  16. Ш.А. Мирсагатов, А.К. Утениязов, А.С. Ачилов. ФТТ 54, 9, 1643 (2012).
  17. И.М. Викулин, В.И. Стафеев. Физика полупроводниковых приборов. Сов. радио, М. (1980) 293 с.
  18. П.Т. Орешкин. Физика полупроводников и диэлектриков. Высш. шк., (1977). 447 с
  19. W. Shockley. Bell Syst. Techn. J. 28, 4351 (1949)
  20. В.И. Cтафеев. ЖТФ 28, 1631 (1958)
  21. В.В. Осипов, В.И. Стафеев. ФТП 1, 12, 1796 (1967)
  22. И.М. Викулин, Ш.Д. Курмашев, В.И. Стафеев. ФТП 42, 1, 113 (2008)
  23. V.I. Stafeev, V.M. Tuchkevich. Rep. 19th Ann. Conf. Phys. Electr. MIT, Cambridge, MA (1959). V. 1. P. 139
  24. И.Д. Анисимова, И.М. Викулин, Ф.А. Заитов, Ш.Д. Курмашев. В кн.: Полупроводниковые фотоприемники / Под. ред. В.И. Стафеева. Радио и связь, М. (1984). C. 101
  25. А. Амброзяк. Конструкция и технология полупроводниковых фотоэлектрических приборов. Сов. радио, М. (1970). 392 с.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.