Вышедшие номера
Смена направления обхода петли на высокочастотных вольт-фарадных характеристиках при критическом значении смещающего напряжения, диэлектрические свойства и эффекты памяти в гетероструктуре Sr0.6Ba0.4Nb2O6/SrTiO3/Si(001)
Павленко А.В. 1
1Федеральный исследовательский центр Южный научный центр РАН, Ростов-на-Дону, Россия
Email: Antvpr@mail.ru
Поступила в редакцию: 14 июня 2023 г.
В окончательной редакции: 28 июля 2023 г.
Принята к печати: 31 июля 2023 г.
Выставление онлайн: 18 сентября 2023 г.

Методом высокочастотного катодного распыления на подложке Si(001) с предварительно осажденным подслоем SrTiO3 (STO) выращена c-ориентированная пленка ниобата бария-стронция состава Sr0.6Ba0.4Nb2O6 (SBN60) толщиной 600 nm. Показано, что пленка относится к сегнетоэлектрикам-релаксорам. При анализе высокочастотных вольт-фарадных характеристик гетероструктуры SBN60/STO/Si(001) при U=0-24 V установлена критическая величина электрического напряжения (~ 10 V), в окрестности которой наблюдалось изменение направления обхода петли C(U). Показано, что это может быть связано с увеличением роли по мере роста амплитуды U встроенного заряда, образующегося на границе раздела пленки и подложки, на фоне переключения сегнетоэлектрической поляризации в пленке SBN60. Обсуждаются причины выявленных закономерностей и их роль при изучении эффектов памяти в гетероструктуре SBN60/STO/Si(001). Ключевые слова: ниобат бария-стронция (SBN), структуры металл-сегнетоэлектрик-полупроводник, тонкие пленки. DOI: 10.61011/PJTF.2023.19.56265.19652