Вышедшие номера
Контактные системы для фотоэлектрических преобразователей на основе InGaAsP/InP
Потапович Н.С. 1, Малевская А.В.1, Солдатенков Ф.Ю.1, Хвостиков В.П.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: nspotapovich@mail.ioffe.ru, amalevskaya@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 6 октября 2023 г.
В окончательной редакции: 27 ноября 2023 г.
Принята к печати: 28 ноября 2023 г.
Выставление онлайн: 9 февраля 2024 г.

Выполнены исследования влияния режимов формирования контактных систем на основе Pd-Ge-Au и Au(Ge)-Ni-Au к InGaAsP n-типа проводимости и NiCr-Ag-Au к InGaAsP и InP p-типа проводимости на величину удельного переходного контактного сопротивления. Достигнуты низкие значения удельного переходного контактного сопротивления ~ 10-7 Ω· cm2 при использовании контактной системы Au(Ge)-Ni-Au (при температуре вжигания 420-440oC) и ~ 10-6 Ω· cm2 при напылении Pd-Ge-Au (при пониженных температурах вжигания <200oC) для составов твердого раствора n-InGaAsP с низким содержанием фосфора. Для образцов p-InGaAsP с контактной системой NiCr-Ag-Au минимальное контактное сопротивление составило ~ 10-6 Ω· cm2 при температурах отжига 460oC. Ключевые слова: контактные системы, InGaAsP/InP, термический отжиг, гетероструктуры, фотоэлектрические преобразователи.