Приводятся результаты исследования эмиссионных характеристик поперечного объемного разряда в смеси He-HCl = 10-1 при суммарном давлении 1-8 kPa. Объем плазмы составлял 18x2.2x1 cm3 при межэлектродном расстоянии d=2.2 cm и напряжении заряда основной накопительной емкости 5-10 kV. Эмиссионные характеристики разряда исследовались в спектральной области 500-1000 nm. Разряд представляет интерес для использования в импульсном плазмохимическом реакторе сухого травления. Плотность радикалов хлора (атомарных) в плазме оптимизировалась по давлению исходной рабочей смеси He-HCl с использованием относительной интенсивности излучения спектральной линии атома хлора 837(5) nm. Непрямой контроль за плотностью молекулярных радикалов возможно проводить и по излучению не хлорсодержащих возбужденных продуктов распада молекул HCl (спектральная линия 656 nm Halpha). PACS: 52.70.Kz
Василяк Л.М., Костюченко С.В., Красночуб А.В., Кузьменко М.Е. // ЖПС. 1998. Т. 65. N 2. С. 302--304
Шуаибов А.К. // Письма в ЖТФ. 2000. Т. 26. Вып. 9. С. 1--6
Королев Ю.Д., Месяц Г.А., Ярош А.М. // Химия высоких энергий. 1987. Т. 21. N 5. С. 464--468
Орликовский А.А., Руденко К.В. // Микроэлектроника. 2001. Т. 30. N 2. С. 85--105
Шуаибов А.К. // Письма в ЖТФ. 1998. Т. 24. Вып. 23. С. 30--34
Шуаибов А.К., Шимон Л.Л., Шевера И.В., Дащенко А.И. // Физика плазмы. 1999. Т. 25. N 9. С. 640--645
Шевера В.С., Шуаибов А.К., Неймет Ю.Ю. // Патент Украины на изобретение N 17169 А. Заяв. 24.01.1994. Опубл. 31.10.1997. БИ. N 5
Стриганов А.П., Одинцова Г.А. Таблицы спектральных линий атомов и ионов. Справочник. М., 1982
Шуаибов А.К., Дащенко А.И., Шевера И.В. // Письма в ЖТФ. 2002. Т. 28. Вып. 8. С. 48--53
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2017 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук