Представлены результаты исследования эффективного анод-катодного (А-К) зазора в ионном диоде с магнитной самоизоляцией при работе в двухимпульсном режиме. В диоде A-K зазор ограничивается плазменным слоем на поверхности анода и дрейфующими электронами вблизи поверхности катода. Выполненный анализ показал, что в течение первого импульса напряжения эффективный А-К зазор сокращается с постоянной скоростью 1.5± 0.1 cm/mus с 9 до 1-2 mm (в зависимости от длительности первого импульса), полного перемыкания А-К зазора плазмой не происходит. После изменения полярности напряжения в течение 10-20 ns эффективный зазор восстанавливается до величины, близкой к исходной. Высота слоя дрейфового движения электронов на втором импульсе составляет 1-1.5 mm, толщина плазменного слоя на поверхности анода при этом не превышает 0.5 mm.
Ремнев Г.Е. Получение мощных ионных пучков для технологических целей: Автореф. дис. д-ра техн. наук. Томск, 1994
Пушкарев А.И., Исакова Ю.И., Сазонов Р.В., Холодная Г.Е. Генерация пучков заряженных частиц в диодах со взрывоэмиссионным катодом. М.: Физматлит, 2013. 240 с
Pushkarev A., Isakova Yu., Vahrushev D. // Phys. Plasmas. 2010. V. 17. P. 123 112
Pushkarev A.I., Isakova Yu.I. // Surface \& Coatings Technology. 2013. V. 228. P. S382
Isakova Yu.I. // J. Korean Physical Society. 2011. V. 59. N 6. P. 3531
Pushkarev A.I., Isakova J.I., Saltimakov M.S., Sazonov R.V. // Phys. Plasmas. 2010. V. 17. P. 013 104
Werner Z., Piekoszewski J., Szymczyk W. // Vacuum. 2001. V. 63. P. 701
Pushkarev A.I., Isakova Yu.I., Guselnikov V.I. // Phys. Plasmas. 2011. V. 18. P. 083 109
Schneider R., Stallings C., Cummings D. // J. Vac. Sci. Tech. 1975. V. 12. P. 1191
Humphries S. Charged Particle Beams. Wiley, New York, 1990. 847 p
Vekselman V., Gleizer J., Krasik Ya. et al. // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 93. P. 081 503
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.