Проведены исследования плазменной струи атмосферного давления, возбуждаемой в воздухе и азоте барьерным разрядом. Создан источник, формирующий в воздухе и азоте стабильные плазменные струи длиной до 4 cm, и измерены его энергетические и спектральные характеристики.
Schutze A., Jeong J.Y., Babayan S.E., Park J., Selwyn G.S., Hicks R.F. // IEEE Trans. Plasma Sci. 1998. Vol. 26. N 6. P. 1685--1694
Rahman Z., Rahman H., Rahman Md.A. // Int. J. Math. Phys. Sci. Res. 2014. Vol. 2. N 2. P. 127--146
Plasma for Bio-Decontamination, Medicine and Food Security (NATO Science for Peace and Security Series A: Chemistry and Biology) / Ed. by Z. Machala, K. Hensel, Yu. Akishev. Springer, 2012. 496 p
Kong M.G., Kroesen G., Morfill G., Nosenko T., Shimizu T., van Dijk J., Zimmermann J.L. // New Journal of Physics. 2009. Vol. 11. P. 115012
Joh H.M., Kim S.J., Chung T.H., Leem S.H. // Appl. Phys. Lett. 2012. Vol. 101. P. 053703
Sosnin E.A., Stoffels E., Erofeev M.V., Kieft I.E., Kunts S.E. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2004. Vol. 32. N 4. P. 1544--1550
Laroussi M. // Plasma Process. Polym. 2005. Vol. 2. P. 391--400
Daun Y., Hung C., Yu Q.S. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2005. Vol. 33. P. 328--329
Benedict J., Forcke K., Yanguas-Gil A., Von Keudell A. // J. Appl. Phys. 2006. Vol. 99. P. 112--303
Tioshifuji J., Katsumata T., Takikawa H., Sakakibara T., Shimizu I. // Surface and Coating Tech. 2003. Vol. 171. P. 302--306
Shao X.-J., Jiang N., Zhang G.-J., Cao Z.-X. // Appl. Phys. Lett. 2012. Vol. 101. P. 253509
Shao T., Zhang C., Wang R., Zhou Y., Xie Q., Fang Z. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2015. Vol. 43. N 3. P. 726--732
Shao T., Yang W., Zhang C., Fang Z., Zhou Y., Schamiloglu E. // Europhysics Lett. 2014. Vol. 107. N 6. P. 65004
Hong Y.Ch., Uhm H.S. // Appl. Phys. Lett. 2006. Vol. 89. P. 221504
Zhang C., Shao T., Wang R., Zhou Z., Zhou Y., Yan P. // Physics of Plasmas. 2014. Vol. 21. N 10. P. 103505
Kim J.Y., Lee D.-H., Ballato J., Cao W., Kim S.-O. // Appl. Phys. Lett. 2012. Vol. 101. P. 224101
Соснин Э.А., Пикулев А.А., Тарасенко В.Ф. // ЖТФ. 2011. Т. 81. Вып. 4. С. 97--101