"Журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Потенциал плоскостного каналирования в поверхностном слое кристалла LiH
Корхмазян Н.А.1, Корхмазян Н.Н.1, Бабаджанян Н.Э.1
1Армянский педагогический университет им. Х. Абовяна, Ереван, Армения
Поступила в редакцию: 1 сентября 2003 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2004 г.

Показано, что потенциал в поверхностном слое кристалла несколько отличается от потенциала в глубине кристалла. Это отличие крайне мало, порядка 3%. Показано также, что толщина слоя, в котором имеет место это изменение, пренебрежимо мала по сравнению с длиной деканалирования.
  • Высоцкий В.И., Кузьмин Р.Н., Моксюта Н.В. // ЖЭТФ. 1987. Т. 93. Вып. 6(12). С. 2015
  • Berman B.L. et al. // Nucl. Instr. and Meth. In Phys. Res. 1996. Vol. B1119. P. 71
  • Корхмазян Н.А., Корхмазян Н.Н., Бабаджанян Н.Э. // ЖТФ. 2003. Т. 73. Вып. 8. С. 16
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.