"Физика и техника полупроводников"
Издателям
Вышедшие номера
Дефекты в аморфном кремнии, легированном бором
Голикова О.А.1, Домашевская Э.П.1, Казанин М.М.1, Мавлянов Х.Ю.1, Терехов В.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук,, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 28 января 1994 г.
Выставление онлайн: 19 июня 1994 г.

Проведены исследования ультрамягких рентгеновских эмиссионных спектров образцов a-Si:H, легированных бором из газовой фазы и ионной имплантацией. Показано, что этот метод может успешно применяться для определения концентрации нейтральных оборванных связей (D0) и что закономерности трансформации спектров при изменении степени легирования объясняются перезарядкой дефектов типа D0-> D+ (D+ --- положительно заряженная оборванная связь). Показано различие в спектрах при различных методах введения бора.
  • M. Stutzmann, W.B. Jackson. Sol.St.Commun., 62, 153 (1987)
  • K. Pierz, W Fuhs., H. Mell. Phil. Mag. B, 63, 123 (1991)
  • О.А. Голикова, А.П. Соколов, А.П. Шебанин, М.М. Мездрогина. ФТП, \bf 26, 960 (1992)
  • L. Ley. J. Non-Cryst. Sol. 114, 238 (1989)
  • О.А. Голикова, Э.П. Домашевская, Х.Ю. Мавлянов, В.А. Терехов, С.Н. Тростянский. ФТП, \bf 27, 1468 (1993)
  • О.А. Голикова, У.С. Бабаходжаев, В.В. Дубро, Р.Г. Икрамов, М.М. Казанин, М.М. Мездрогина, Р.Р. Яфаев. ФТП, \bf 26, 66 (1992)
  • S. Mizukawa, K. Sato, Y. Kazumichi, M. Isawa, K. Kuroiwa, Y. Tarui. Japan. J. Appl. Phys., \bf 28, 961 (1989)
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.