Вышедшие номера
Изменение электронной структуры поверхности GaN/Si(111) при адсорбции Li
Российский научный фонд, «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований малыми отдельными научными группами» (региональный конкурс), 22-29-20181
Санкт-Петербургский научный фонд, «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований малыми отдельными научными группами» (региональный конкурс), 13/2022
Тимошнев С.Н. 1, Бенеманская Г.В. 2, Мизеров А.М. 1, Соболев М.С. 1, Эннс Я.Б. 1
1Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: timoshnev@mail.ru, galina.benemanskaya@mail.ioffe.ru, andreymizerov@rambler.ru, sobolev_maksim@spbau.ru, ennsjb@gmail.com
Поступила в редакцию: 31 мая 2022 г.
В окончательной редакции: 29 июля 2022 г.
Принята к печати: 24 октября 2022 г.
Выставление онлайн: 12 ноября 2022 г.

Проведены исследования электронной структуры эпитаксиальных слоев GaN/Si(111) и границы раздела Li/GaN/Si(111) при монослойном покрытии Li in situ в условиях сверхвысокого вакуума. Эксперименты проводились с использованием фотоэлектронной спектроскопии при синхротронном излучении в диапазоне энергий фотонов 75-850 эВ. Исследованы фотоэмиссионные спектры валентной зоны и остовных уровней Ga 3d, N 1s при монослойном покрытии Li. Обнаружено, что адсорбция Li вызывает существенный спад интенсивности фотоэмиссионной линии собственного поверхностного состояния и возникновение индуцированного поверхностного состояния за счет переноса заряда между адсорбированным слоем Li и поверхностными атомами Ga. Установлено, что поверхность GaN/Si(111) имеет преимущественно Ga-полярность. Граница раздела Li/GaN/Si(111) имеет полупроводниковый характер. Ключевые слова: III-нитриды, электронная структура, граница раздела металл-GaN, фотоэлектронная спектроскопия.