Определены тип, энергия, доза ионов и температура прогрева, которые позволяют обеспечить стабильную минимальную работу выхода поверхности в течение одного цикла эксперимента (не менее 2-3 min). Вторичные ионные масс-спектрограммы снимались с использованием ионов Cs⁺, Ba⁺ и Ar⁺. В качестве объектов исследования использованы образцы Cu, Al и Mo. Установлены оптимальные режимы ионной имплантации и температура активации, обеспечивающие стабильную минимальную работу выхода поверхности исследуемых образцов. Образцы, имплантированные ионами Ba⁺, выдерживают более высокие температурные и токовые нагрузки, чем образцы, имплантированные ионами Cs⁺. Однако в случае Cs⁺ работа выхода уменьшается больше (до 1.9 eV). Показано, что при evarphi=<1.85-1.9 eV практически не наблюдается выход нейтральных распыленных частиц с поверхности.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.