Наноморфологические характеристики поверхности кристаллов кремния (100) при СВЧ-плазменной обработке в условиях слабой адсорбции
Шаныгин В.Я.1, Яфаров Р.К.1
1Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН, Саратов, Россия
Email: pirpc@yandex.ru
Поступила в редакцию: 2 марта 2012 г.
Выставление онлайн: 20 марта 2013 г.
Исследованы закономерности влияния режимов и химического состава высокоионизованной плазмы электронного циклотронного резонанса (ЭЦР) СВЧ газового разряда низкого давления на наноморфологию поверхности монокристаллов кремния кристаллографической ориентации (100). Рассмотрены модельные механизмы процессов, обеспечивающих управление основными характеристическими параметрами наноморфологии кристаллов кремния при низкоэнергетичной СВЧ плазменной обработке в условиях слабой адсорбции с использованием химически активной и инертной газовых сред.
- Леденцов Н.Н., Устинов В.М., Щукин В.А., Копьев П.С., Алферов Ж.И., Бимберг Д. // ФТП. 1998. Т. 32. N 4. Cтр. 385-410
- Шаныгин В.Я., Яфаров Р.К. // ФТП. 2011. Т. 45. Вып. 11. С. 1542-1548
- Герасименко Н.Н., Пархоменко Ю.Н. Кремний --- материал наноэлектроники. М.: Техносфера, 2007. 352 с
- Шаныгин В.Я., Яфаров Р.К. // ЖТФ. 2009. Т. 79. Вып. 12. С. 73-78
- Технология СБИС. В 2-х кн. Пер. с анг. / Под ред. С. Зи. М.: Мир, 1985. 404 с
- Яфаров Р.К. Физика СВЧ-вакуумно-плазменных нанотехнологий. М.: Физматлит, 2009. 216 с
- Оура К., Лифшиц В.Г., Саранин А.А., Зотов А.В., Катаяма М. Введение в физику поверхности. М.: Наука, 2006. 490 с
- Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986. 232 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
