Вышедшие номера
Кинетические процессы в источниках отрицательных ионов водорода при большой удельной мощности разряда
Горецкий В.П.1, Рябцев А.В.1, Солошенко И.А.1, Тарасенко А.Ф.1, Щедрин А.И.1
1Институт физики Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 5 августа 1992 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1993 г.

Проведено численное моделирование кинетических процессов в источнике отрицательных ионов водорода H- с отражательным разрядом при большой удельной мощности, вкладываемой в разряд. Показано, что при малых удельных мощностях (W=< 100 Вт/см3) концентрация отрицательных ионов водорода N H- пропорциональна разрядному току I, а при больших - sqrt(I)sqrt. Последнее приводит к насыщению плотности H-, когда W >500 Вт/см3.