Особенности интерференции на границе тонкая металлическая пленка-- диэлектрическое основание
Усанов Д.А.1, Скрипаль А.В.1
1Саратовский национальный исследовательский государственный университет им. Н.Г. Чернышевского, Саратов, Россия
Поступила в редакцию: 10 марта 1993 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1994 г.
Проведен анализ влияния толщины металлической пленки на интерференционную картину на границе металлическая пленка-диэлектрическое основание. Установлена немонотонная зависимость сдвига интерференционных полос на границе металлической пленки от ее толщины. Необходимость учета глубины проникновения волны в металлическую пленку продемонстрирована на примере измерения толщины алюминиевых пленок в диапазоне толщины 160-1200 Angstrem.
- Шкляревский И.Н. ЖТФ. 1956. Т. 26. Вып. 2. С. 333--342
- Метфессель С. Тонкие пленки, их изготовление и измерение. М., Л.: Госэнергоиздат, 1963. 272 c
- Розенберг Г.В. УФН. 1956. Т. 58. N 3. С. 487--518
- Шкляревский И.Н., Рязанов А.Н. Опт. и спектр. 1957. Т. 2. Вып. 1. С. 645--650
- Clarke K.K., Hess D.T. IEEE Trans. Instr. and Meas. 1990. Vol. 39. N 1. P. 52--55
- Бабенко В.П., Горбаренко В.А., Евтихиев Н.Н. и др. Электрон. пром-сть. 1989. N 6. С. 3
- Борн М., Волф Э. Основы оптики. М.: Наука, 1973. 720 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
