Вышедшие номера
Исследование физических процессов в плазменном ключевом элементе с крупноструктурной сеткой II. Импульсное гашение разряда
Алексеев Н.И.1, Каплан В.Б.1, Марциновский А.М.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 6 апреля 1995 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1996 г.

Продолжается начатое в [1] исследование плазменных ключевых элементов (ПКЗ) с крупноструктурной сеткой и рассматривает кинетику импульсного гашения разряда. Установлено, что эта кинетика носит обрывный характер. Показано, что универсальной особенностью системы является невозможность разрыва квазинейтральной плазмы и образования двойного слоя в какой-либо точке. Это и обусловливает основную экспериментально наблюдаемую особенность кинетики - неизменность анодного тока до самого момента обрыва, несмотря на значительные изменения параметров плазмы в катодной и анодной областях разряда. Анализируются возможные причины обрыва тока - гетерогенность, плазменные неустойчивости, внутренняя неустойчивость конфигурации плазмы в канале сетки.