Вышедшие номера
Home » Журнал технической физики » Год 1996, выпуск 6 » Статья стр. 170
<<<>>>
Осаждение слоев SiO2 из газовых струй при активации реагентов электронным пучком
Шарафутдинов Р.Г.1, Бирюков С.А.2, Ефимов В.М.2
1Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
2Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 10 января 1995 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1996 г.
PDF версия
Описаны метод получения и свойства слоев SiO2, осажденных из газовых струй, активируемых электронным пучком. Исследованы зависимости оптических, химических и электрофизических свойств полученных пленок от одного из параметров - расстояния от источника активируемого газа до подложки. Установлены корреляции между пористотью пленок и их электрофизическими свойствами.
  1. Halpern B.L., Schmitt J.J., Golz J.W. et al. Appl. Surf. Sci. 1991. Vol. 48/49. P. 19
  2. Janes J., Lutz N. Rev. Sci. Instr. 1991. Vol. 62 (10). P. 2356
  3. Meeusen G.J., Ershov-Pavlov E.A., Meulenbroeks R.F.G. et al. 10^th Intern. Symp. on Plasma Chem. (ISPC-10). Bochum, 1991. P. 1. 2--7
  4. Wilbers A.T.M., Meeusen G.J., Haverlag M. et al. Thin Solid Films. 1991. Vol. 204. P. 59
  5. Kessler F., Mohring H.-D., Bauer G.H. J. Non-Cryst. Solids. 1991. Vol. 137\&138. P. 745
  6. Beulens J.J., Kroesen G.M.W., Schram D.C. et al. J. Appl. Polym. Sci. 1990. Vol. 46. P. 527
  7. Eres D., Lowndes D.H., Tischler J.Z. Appl. Phys. Lett. 1989. Vol. 55 (10) P. 1008
  8. Nakano M., Sakaue H., Kawamoto H. et al. Appl. Phys. Lett. 1990. Vol. 57 (11). P. 1096
  9. Horiike Y., Tanaka T., Nakano M. et al. J. Vac. Sci. Technol. 1990. Vol. A 8 (3). P. 1844
  10. Sharafutdinov R.G., Sukhinin G.I., Veschikov S.I., Biryukov S.A. 10^th Intern. Symp. Plasma Chem. (ISPC-10). Bochum. 1991. Vol. 2. P. 4--22
  11. Ngueyen S.V. J. Vac. Sci. Technol. 1986. Vol. B4. P. 1159
  12. Baklanov M.R., Vasilyeva L.L., Gavrilova T.A. et al. Thin Solid Films. 1989. Vol. 171. P. 43
  13. Chau T., Mejia S.R., Kao K.C. Can. J. Phys. 1991. Vol. 69. P. 165
  14. Kulich W., Kassing R. J. Vac. Sci. Technol. 1987. Vol. B. P. 523
  15. Boyer P.K., Roche G.A., Ritohic W.H., Collins G.J. Appl. Phys. Lett. 1982. Vol. 40. P. 716
  16. Alonso J.C., Ortiz A., Falcony C. Vacuum. 1992. Vol. 43. N 8. P. 843
  17. Belousov I.I., Efimov V.M., Sinitsa S.P. et al. Phys. Stat. Sol. (a). 1991. Vol. 125. P. 387
  18. Fowler R.H., Nordgeim L. Proc. Roy. Sos. 1928. Vol. 119. P. 173
  19. Taft E.A. J. Electrochem. Soc. 1979. Vol. 126. P. 1729
  20. Lucovsky G., Tsu D.V. J. Vac. Sci. Technol. 1987. Vol. A5 (4). P. 2231
  21. Smith R.W., Rose A. Phys. Rev. 1955. Vol. 97. P. 1531
  22. Zor. M., Hogarth C.A. Phys. Stat. Sol. (a). 1987. Vol. 99. P. 513
  23. Murtgatroyd P.N. J. Phys. 1970. Vol. D 13. P. 151

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2025 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme