Вышедшие номера
Тепловые и оже-процессы в p-n-переходах на основе гетероструктур GaInAs / InAs и InAsSbP / InAs
Сукач Г.А.1, Олексенко П.Ф.1, Богословская А.Б.1, Билинец Ю.Ю.1, Кабаций В.Н.1
1Институт физики полупроводников НАН Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 9 апреля 1996 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1997 г.

Исследованы процессы релаксации избыточной энергии и механизмы, ответственные за перегрев активной области ИК излучателей на основе неизопериодических структур с напряженными слоями InGaAs и близких к изопериодическим InAsSbP, излучающих в диапазоне lambda=2.5-5.0 мкм. Для ИК излучателей на основе In1-xGaxAs установлена взаимосвязь температур перегрева активной области структуры Delta T с оже-процессами. Показано, что при увеличении x в пределах 0-0.09 эффективность оже-рекомбинации падает, что способствует резкому падению Delta T. При x>0.09 эффективность CHHS-оже-процессов экспоненциально ослабляется, однако в связи с ростом плотности дислокаций из-за существенной величины (~ 6.9%) параметра несоответствия решеток наблюдается, хотя и медленный, но рост Delta T.