Поведение температур стеклования и кристаллизации оксидного стекла MgO--Al2O3--SiO2 в условиях внешних воздействий
Алексеенко В.И.1, Волкова Г.К.1, Попова И.Б.1, Носолев И.К.1, Константинова Т.Е.1
1Донецкий физико-технический институт им. А.А.Галкина НАН Украины, Донецк, Украина
Поступила в редакцию: 28 июля 1995 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 1997 г.
Изучена кинетика температур стеклования Tg и кристаллизации Tcr стекла MgO-Al2O3-SiO2 в условиях отжига в интервале стеклования и после обработки импульсным магнитным полем (ИМП). Установлено, что все исследуемые параметры претерпевают немонотонные и коррелирующие между собой временные изменения, связанные с протеканием в стекле структурной релаксации (СР). Обнаружен важный с точки зрения современных представлений о механизмах СР эффект относительного снижения Tg и Tcr в отожженном или обработанном ИМП стекле, связанный с концентрационным перераспределением химических связей. Определено условие аномального поведения исследуемых температур в результате внешних воздействий.
- Ewing R.H. // J. Crystal. Growth. 1971. Vol. 11. P. 221
- Chen H.S. // Acta Met. 1974. Vol. 22. P. 897
- Takayama S., Kudo M. // J. Jap. Inst. Met. 1981. Vol. 45. N 1. P. 34--39
- Китайгородский И.И., Ходаковская Р.Я. // Изв. АН СССР. Неорган. материалы. 1965. Т. 1. N 5. С. 796--803
- Плотнюк В.В., Ефимова Т.В. // Металлофизика. 1993. Т. 15. N 10. С. 90--93
- Алексеенко В.И., Волкова Г.К., Попова И.Б. и др. // ЖТФ. 1996. Т. 66. Вып. 1. С. 59--58
- Силинь А.Р., Лаце Л.А. // ФиХС. 1992. Т. 18. N 2. С. 1--13
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук