Вышедшие номера
Изменение структуры и субструктуры вольфрама при облучении потоками водородной плазмы с удельной энергией, близкой к тепловым нагрузкам на поверхности ИТЭР
Гаркуша И.Е., Малыхин С.В., Махлай В.А., Пугачёв А.Т., Баздырева С.В., Аксёнов Н.Н.1
1Институт физики плазмы ННЦ "Харьковский физико-технический институт", Харьков, Украина
Поступила в редакцию: 12 марта 2014 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2014 г.

Представлены результаты исследований изменения структуры, субструктуры, напряженного состояния и процессов растрескивания в поверхностных слоях вольфрамовых мишеней в модельных экспериментах по облучению водородной плазмой на квазистационарном ускорителе КСПУ Х-50, который адекватно воспроизводит плотность и длительность ELM в ИТЭР: плазменная тепловая нагрузка до 1 MJ·m-2, длительность импульса 0.25 ms, максимальное число облучающих импульсов до 150. С использованием методов рентгеновской дифрактометрии выполнен анализ развития остаточных макронапряжений от сжатия к растяжению, показана их связь с формированием трещин. Выявлено, что облучение вызывает увеличение периода решетки вольфрама в недеформируемом сечении a0 от ~0.31642±0.00001 nm (исходное состояние) до 0.31645±0.00001 nm. Сделана оценка изменения размера областей когерентного рассеяния и микродеформаций. Установлена роль точечных дефектов и их комплексов в стимулированных облучением процессах. Предложена качественная модель, объясняющая происходящие изменения.