Вышедшие номера
Магнетронное осаждение покрытий с испарением мишени
Блейхер Г.А.1, Кривобоков В.П.1, Юрьева А.В.1
1Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия
Поступила в редакцию: 2 марта 2015 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2015 г.

Проанализированы возможности плазмы магнетронных распылительных систем разных видов, в том числе импульсных и с жидкофазными мишенями, для создания интенсивной эмиссии атомов и высокоскоростного осаждения покрытий. Для этого разработана математическая модель тепловых и эрозионных процессов в мишени на основе уравнений теплопроводности с учетом фазовых переходов первого рода. С ее помощью выявлены параметры магнетронов, при которых происходит интенсивное испарение атомов с поверхности мишеней. Показано, что его присутствие приводит к увеличению скорости роста металлических покрытий в 10-100 раз по сравнению с обычными магнетронными системами, основанными только на столкновительном распылении.