Вышедшие номера
Особенности механизмов токопрохождения в полупроводниковой структуре фотоэлектрического преобразователя с n+-p-переходом и антиотражающей пленкой пористого кремния
Трегулов В.В.1, Степанов В.А.1, Литвинов В.Г.2, Ермачихин А.В.2
1Рязанский государственный университет им. С.А. Есенина, Рязань, Россия
2Рязанский государственный радиотехнический университет, Рязань, Россия
Email: trww@yandex.ru, vl.stepanov@rsu.edu.ru, vglit@yandex.ru, al.erm@mail.ru
Поступила в редакцию: 5 апреля 2016 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2016 г.

Исследована температурная зависимость прямых и обратных ветвей вольт-амперной характеристики полупроводниковой структуры фотоэлектрического преобразователя с n+-p-переходом на основе монокристаллического кремния и антиотражающей пленкой пористого кремния на фронтальной поверхности. Обнаружено наличие нескольких механизмов токопрохождения. Установлено, что на процессы токопрохождения в исследуемой полупроводниковой структуре существенное влияние оказывают ловушки, возникающие при формировании пленки пористого кремния.