Расчет теплофизических процессов и особенности модификации поверхности стали импульсными потоками плазмы
Жукешов A.M.1, Габдуллина A.T.1, Амренова А.У.1, Абдраимова Г.А.1, Мухамедрыскызы M.1
1Национальная нанотехнологическая лаборатория КазНУ им. аль- Фараби Алматы, Казахстан e-mail:
Поступила в редакцию: 4 апреля 2017 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2017 г.
Проведены оценка температурного градиента и глубины плавления поверхности сплавов на основе железа при воздействии высокотемпературных импульсных плазменных потоков и сравнение с экспериментальными результатами. Показано, что при воздействии импульсного плазменного потока поверхность железа плавится при плотности энергии 15-20 J/cm2, тепловой фронт успевает распространиться на глубину до 20 mum, при этом толщина расплавленного слоя менее 10 mum. Для характерного размера микроструктуры в результате теплового возмущения получены значения 17 nm. Экспериментально показано образование новых фаз с размерами кристаллитов от 16 до 270 nm . Показано, что основным фактором упрочнения сталей является формирование наноразмерной кристаллической структуры в модифицированной приповерхностной области. DOI: 10.21883/JTF.2017.12.45204.2281
- Lieberman M.A., Lichtenberg A.G. Principles of plasma discharges and materials processing. N.Y.: John Wiley \& Sons Inc., 1994. 450 p
- Tomida S., Nakata K. // Surface and Coatings Technology. 2003. Vol. 174-175. P. 559-563
- Piekoszewski J. // Nukleonika. 2000. Vol. 45. N 3. P. 193-197
- Tereshin V.I. at al. // Rev. Sci. Instrum. 2002. Vol. 73. N 2. Р. 1-3
- Uglov V.V., Kuleshov A.K., Soldatenko E.A., Koval N.N., Ivanov Yu.F., Teresov A.D. // Surface and Coatings Technology. 2012. Vol. 206. N 11-12. P. 2972-2976
- Гурееев Д.М., Катулин В.А., Лалетин А.П. и др. // Физика и химия обработки материалов. 1986. N 5. С. 46-50
- Zhukeshov A.M., Gabdullina A.T., Amrenova A.U., Pak S.P. // Mater. Sci. and Appl. Sci. Res. Publish. 2013. N 4. P. 35-41
- Zhukeshov A.M., Amrenova A.U., Gabdullina A.T. // International J. Mater. Sci. and Appl. 2013. Vol. 3. N 2. Р. 115-119
- Аброян И.А., Андронов А.Н., Титов А.И. Физические основы электронной и ионной технологии. М.: Выс. школа, 1984. 320 с
- Галенко П.К., Харанжевский Е.В., Данилов Д.А. // ЖТФ. 2002. Т. 72. Вып. 5. С. 48-55
- Ibraev B.M. // J. Engin. Thermophysics. 2000. Vol. 12. N 2. P. 183-190
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.