Вышедшие номера
Влияние процесса многократного рассеяния релятивистского электронного пучка в газоплазменной среде на динамику резистивной шланговой неустойчивости
Переводная версия: 10.1134/S1063784218070174
Колесников Е.К.1, Мануйлов А.С.1, Петров В.С.1
1Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Россия
Email: a.manuylov@spbu.ru
Поступила в редакцию: 29 ноября 2017 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2018 г.

Рассмотрено влияние процесса многократного кулоновского рассеяния на пространственную динамику резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося вдоль омического плазменного канала. Показано, что усиление процесса рассеяния заметно ослабляет указанную неустойчивость.