Формирование нанокристаллов и аморфных нанокластеров германия в пленках GeO[SiO] и GeO[SiO2] с использованием электронно-пучкового отжига
Государственное задание министерства науки и высшего образования Российской Федерации, ИТ СО РАН, 121031800218-5
Государственное задание министерства науки и высшего образования Российской Федерации, ИФП СО РАН, FWGW-2022-0011
Константинов В.О.
1, Баранов Е.А.
1, Fan Zhang
2,3, Щукин В.Г.
1, Замчий А.О.
1,2, Володин В.А.
2,31Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
2Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
3Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Email: konstantinov@itp.nsc.ru, itpbaranov@gmail.com, 840003068@qq.com, shchukin@itp.nsc.ru, zamchiy@gmail.com, volodin@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 9 февраля 2022 г.
В окончательной редакции: 13 мая 2022 г.
Принята к печати: 17 мая 2022 г.
Выставление онлайн: 7 июля 2022 г.
Проведены электронно-пучковые отжиги для формирования аморфных и кристаллических кластеров германия в пленках GeO[SiO] и GeO[SiO2], осажденных на подложках из кварца и монокристаллического кремния. С помощью электронной микроскопии, спектроскопии комбинационного рассеяния света и спектроскопии пропускания и отражения света были исследованы структурные трансформации пленок и их оптические свойства. Показано, что аморфные нанокластеры германия присутствуют в исходной пленке GeO[SiO], а в исходной пленке GeO[SiO2] они не наблюдаются. Найдены режимы электронно-пучкового отжига, необходимые для формирования нанокристаллов германия в пленках GeO[SiO] и GeO[SiO2]. Показано, что при одинаковых параметрах отжига доля кристаллической фазы германия в пленках GeO[SiO] меньше, чем в пленках GeO[SiO2]. Обнаружено, что доля кристаллической фазы при одинаковых параметрах отжига больше для пленок на подложке из кварца, чем на подложке из монокристаллического кремния. Были определены размеры нанокристаллов германия, сформированных в результате электронно-пучковых отжигов. Ключевые слова: пленки нестехиометрического германосиликатного стекла, отжиг электронным пучком, нанокластеры и нанокристаллы германия.
- E.G. Barbagiovanni, D.J. Lockwood, P.J. Simpson, L.V. Goncharova. Appl. Phys. Rev., 1, 011302 (2014). DOI: 10.1063/1.4835095
- D. Carolan. Prog. Mater Sci., 90, 128 (2017). DOI: 10.1016/J.PMATSCI.2017.07.005
- V.G. Dyskin, M.U. Dzhanklych. Appl. Sol. Energy, 57, 252 (2021). DOI: 10.3103/S0003701X2103004X
- S.M. Sze. Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed. (Wiley, NY., 1981), p. 789
- Y. Minoura, A. Kasuya, T. Hosoi, T. Shimura, H. Watanabe. Appl. Phys. Lett., 103, 033502 (2013). DOI: 10.1063/1.4813829
- Y. Kamata. Mater. Today, 11, 30 (2008). DOI: 10.1016/S1369-7021(07)70350-4
- M. Shang, X. Chen, B. Li, J. Niu. ACS Nano, 14, 3678 (2020). DOI: 10.1021/acsnano.0c00556
- I. Stavarache, C. Logofatu, M.T. Sultan, A. Manolescu, H.G. Svavarsson, V.S. Teodorescu, M.L. Ciurea. Sci. Rep., 10, 3252 (2020). DOI: 10.1038/s41598-020-60000-x
- M. Ardyanian, H. Rinnert, M. Vergnat. J. Appl. Phys., 100, 113106 (2006). DOI: 10.1063/1.2400090
- S.K. Wang, H. Liu, A. Toriumi. Appl. Phys. Lett., 101, 2 (2012). DOI: 10.1063/1.4738892
- Ф. Чжан, С.А. Кочубей, M. Stoffel, H. Rinnert, M. Vergnat, В.А. Володин. ФТП, 54 (3), 251 (2020). DOI: 10.21883/FTP.2020.03.49029.9309 [F. Zhang, S.A. Kochubey, M. Stoffel, H. Rinnert, M. Vergnat, V.A. Volodin. Semiconductors, 54 (3), 322 (2020). DOI: 10.1134/S1063782620030070]
- Sh. Rath, D. Kabiraj, D.K. Avasthi, A. Tripathi, K.P. Jain, Manoj Kumar, H.S. Mavi, A.K. Shukla. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B, 263, 419 (2007). DOI: 10.1016/j.nimb.2007.07.018
- M. Okugawa, R. Nakamura, H. Numakura, M. Ishimaru, H. Yasuda. J. Appl. Phys., 120, 134308 (2016). DOI: 10.1063/1.4964332
- R. Nakamura, A. Matsumoto, M. Ishimaru. J. Appl. Phys., 129, 215301 (2021). DOI: 10.1063/5.0052142
- F. Zhang, V.A. Volodin, E.A. Baranov, V.O. Konstantinov, V.G. Shchukin, A.O. Zamchiy, M. Vergnat. Vacuum, 197, 110796 (2022). DOI: 10.1016/j.vacuum.2021.110796
- V.A. Volodin, P. Geydt, G.N. Kamaev, A.A. Gismatulin, G.K. Krivyakin, I.P. Prosvirin, I.A. Azarov, F. Zhang, M. Vergnat. Electron MDPI, 9, 2103 (2020). DOI: 10.3390/electronics9122103
- S.R.M. da Silva, G.K. Rolim, G.V. Soares, I.J.R. Baumvol, C. Krug, L. Miotti, F.L. Freire, Jr., M.E.H.M. da Costa, C. Radtke. Appl. Phys. Lett., 100, 191907 (2012). DOI: 10.1063/1.4712619
- В.Г. Щукин, В.О. Константинов, В.С. Морозов. ЖТФ, 88 (6), 914 (2018). DOI: 10.21883/JTF.2022.09.52932.28-22 [V.G. Shchukin, V.O. Konstantinov, V.S. Morozov. Tech. Phys., 63 (6), 888 (2018). DOI: 10.1134/S1063784218060191]
- Е.А. Баранов, В.О. Константинов, В.Г. Щукин, А.О. Замчий, И.Е. Меркулова, Н.А. Лунев, В.А. Володин. Письма в ЖТФ, 47 (6), 26 (2021). DOI: 10.21883/JTF.2022.09.52932.28-22 [E.A. Baranov, V.O. Konstantinov, V.G. Shchukin, A.O. Zamchiy, I.E. Merkulova, N.A. Lunev, V.A. Volodin. Tech. Phys. Lett., 47, 287 (2021). DOI: 10.1134/S1063785021030172]
- V.A. Volodin, M.P. Gambaryan, A.G. Cherkov, M. Stoffel, H. Rinnert, M.Vergnat. Mater. Res. Express, 3, 085019 (2016). DOI: 10.1088/2053-1591/3/8/085019
- М.П. Гамбарян, Г.К. Кривякин, С.Г. Черкова, M.Stoffel, H.Rinnert, M.Vergnat, В.А. Володин. ФТТ, 62 (3), 434 (2020). DOI: 10.21883/JTF.2022.09.52932.28-22 [M.P. Gambaryan, G.K. Krivyakin, S.G. Cherkova, M. Stoffel, H. Rinnert, M. Vergnat, V.A. Volodin Phys. Solid State, 62 (3), 492 (2020). DOI: 10.1134/S1063783420030105]
- W. Wihl, M. Cardona, J. Tauc. J. Non-Cryst. Solids, 8-10, 172 (1972). DOI: 10.1016/0022-3093(72)90132-9
- V.A. Volodin, G.N. Kamaev, V.A. Gritsenko, A.A. Gismatulin, A. Chin, M. Vergnat. Appl. Phys. Lett., 114, 233104 (2019). DOI: 10.1063/1.5079690
- V.A. Volodin, D.V. Marin, V.A. Sachkov, E.B. Gorokhov, H. Rinnert, M. Vergnat. ЖЭТФ, 145, 77 (2014). DOI: 10.7868/S0044451014010076
- F. Cerdeira, C.J. Buchenauer, F.H. Pollak, M. Cardona. Phys. Rev. B, 5, 580 (1972). DOI: 10.1103/PhysRevB.5.580
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.