Вышедшие номера
Home » Журнал технической физики » Год 2023, выпуск 3 » Статья стр. 350
<<<>>>
Определение плотности электронов в аргоновой струе диэлектрического барьерного разряда с помощью СВЧ волноводного фильтра
DOI: 10.21883/JTF.2023.03.54845.265-22
Усачёнок М.С. 1, Акишев Ю.С. 2, Казак А.В. 1, Петряков А.В. 2, Симончик Л.В. 1, Шкурко В.В.3
1Институт физики им. Б.И. Степанова Национальной академии наук Беларуси, Минск, Беларусь
2АО "ГНЦ РФ Тринити", Москва, Троицк, Россия
3Университет НАН Беларуси, Минск, Беларусь
Email: m.usachonak@dragon.bas-net.by
Поступила в редакцию: 2 декабря 2022 г.
В окончательной редакции: 17 января 2023 г.
Принята к печати: 19 января 2023 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2023 г.
PDF версия
С помощью волноводного СВЧ фильтра определена плотность электронов в аргоновой плазменной струе диэлектрического барьерного разряда. Установлена динамика изменения плотности электронов в течение периода приложенного напряжения частотой около 100 kHz. Наблюдались 4 максимума средней концентрации, которые составляют около 1013 cm-3. Ключевые слова: диэлектрический барьерный разряд, волноводный СВЧ фильтр, спектр пропускания, плотность электронов, плазменная струя.
  1. P. Viegas, E. Slikboer, Z. Bonaventura, O. Guaitella, A. Sobota, A. Bourdon. Plasma Sources Sci. Technol., 31 (5), 053001 (2022). DOI: 10.1088/1361-6595/ac61a9
  2. M. Laroussi, T. Akan. Plasma Process. Polym., 4, 777 (2007). DOI: 10.1002/ppap.200700066
  3. X. Lu, M. Laroussi, V. Puech. Plasma Sources Sci. Technol., 21 (3), 034005 (2012). DOI: 10.1088/0963-0252/21/3/034005
  4. S. Park, W. Choe, S. Youn Moon, S. Jae Yoo. Adv. Phys.: X., 4 (1), 1526114 (2019). DOI: 10.1080/23746149.2018.1526114
  5. Y. Morabit, M.I. Hasan, R.D. Whalley, E. Robert, M. Modic, J.L. Walsh. Eur. Phys. J. D., 75, 32 (2021). DOI: 10.1140/epjd/s10053-020-00004-4
  6. E.E. Kunhardt. IEEE Trans. Plasma Sci., 28, 189 (2000). DOI: 10.1109/27.842901
  7. U. Kogelschatz. IEEE Trans. Plasma Sci., 30 (4), 1400 (2002). DOI: 10.1109/TPS.2002.804201
  8. U. Kogelschatz. Contr. Plasma Phys., 47 (1-2), 80 (2007). DOI: 10.1002/ctpp.200710012
  9. B.L. Sands, B.N. Ganguly, K. Tachibana. Appl. Phys. Lett., 92 (15), 151503 (2008). DOI: 10.1063/1.2909084
  10. R. Stonies, S. Schermer, E. Voges, J.A.C. Broekaert. Plasma Sources Sci. Technol., 13 (4), 604 (2004). DOI: 10.1088/0963-0252/13/4/009
  11. J.L. Walsh, F. Iza, N.B. Janson, V.J. Law, M.G. Kong. J. Phys. D: Appl. Phys., 43 (7), 075201 (2010). DOI: 10.1088/0022-3727/43/7/075201
  12. W. Van Gaens, A. Bogaerts. J. Phys. D: Appl. Phys., 46 (27), 275201 (2013). DOI: 10.1088/0022-3727/46/27/275201
  13. A. Shashurin, M. Keidar. Phys. Plasmas, 22 (12), 122002 (2015). DOI: 10.1063/1.4933365
  14. X. Wang, A. Shashurin. J. Appl. Phys., 122 (6), 063301 (2017). DOI: 10.1063/1.4986636
  15. K.A. Marshall, G.M. Hieftje. Plenary lecture J. Analyt. Atomic Spectrometry, 2, 567 (1987). DOI: 10.1039/Ja9870200567
  16. S.G. Belostotskiy, R. Khandelwal, Q. Wang, V.M. Donnelly, D.J. Economou, N. Sadeghi. Appl. Phys. Lett.,  92, 221507 (2008). DOI: 10.1063/1.2939437
  17. Zh. Qiuping, Ch. Cheng, M. Yuedong. Plasma Sci. Technol., 11|,(5), 560 (2009). DOI: 10.1088/1009-0630/11/5/09
  18. M. Qian, C. Ren, D. Wang, Y. Feng, J. Zhang. 2012 Abstracts IEEE Intern. Conf. Plasma Sci., 5B-9 (2012). DOI: 10.1109/PLASMA.2012.6383989
  19. A.Yu. Nikiforov, Ch. Leys, M.A. Gonzalez, J.L. Walsh. Plasma Sources Sci. Technol., 24 (3), 034001 (2015). DOI: 10.1088/0963-0252/24/3/034001
  20. X. Wang, P. Stockett, R. Jagannath, S. Bane, A. Shashurin. Plasma Source Sci. Technol., 27 (7), 07LT02 (2018). DOI: 10.1088/1361-6595/aacc06
  21. J. Li, A.M. Astafiev, A.A. Kudryavtsev, Ch. Yuan, Zh. Zhou, X. Wang. IEEE Transactions Plasma Sci., 49 (3), 1001 (2021). DOI: 10.1109/TPS.2021.3050110
  22. Y.A. Safronau, L.V. Simonchik, M.S. Usachonak. Contributed Papers of VII International Conference "Plasma physics and plasma technology" (PPPT-7) (Minsk, Belarus, 2012), v. 2, p. 624--627
  23. Е.А. Сафронов, М.С. Усачёнок. Приложение к журналу "Весцi нацыянальнай акадэмii навук Беларусi", 3, 65 (2013)
  24. В.Е. Голант. Сверхвысокочастотные методы исследования плазмы (Наука, М, 1968)
  25. Yu.S. Akishev, V.B. Karalnik, M.A. Medvedev, A.V. Petryakov, N.I. Trushkin, A.G. Shafikov. J. Phys.: Conf. Series, 927, 012040 (2017). DOI: 10.1088/1742-6596/927/1/012040
  26. BOLSIG+ 8.810 http://www.bolsig.laplace.univ-tlse.fr/download.html
  27. С. Браун. Элементарные процессы в плазме газового разряда (Госатомиздат, М., 1961)
  28. V.I. Arkhipenko, Th. Callegari, L.V. Simonchik, J. Sokoloff, M.S. Usachonak. J. Appl. Phys., 116 (12), 123302 (2014). DOI: 10.1063/1.4896305
  29. V.S. Babitski, Th. Callegari, L.V. Simonchik, J. Sokoloff, M.S. Usachonak. J. Appl. Phys., 122 (8), 083302 (2017). DOI: 0.1063/1.4999988

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme