Влияние термического отжига на свойства гетероструктур Ga2O3/GaAs:Cr
Ministry of Education and Science of the Russian Federation, № 220, 075-15-2022-1132
Калыгина В.М.
1, Киселева О.С.
1, Копьев В.В.
1, Кушнарев Б.О.
1, Олейник В.Л.
1, Петрова Ю.С.
1, Цымбалов А.В.
11Национальный исследовательский Томский государственный университет, Томск, Россия
Email: Kalygina@ngs.ru
Поступила в редакцию: 2 июня 2023 г.
В окончательной редакции: 8 сентября 2023 г.
Принята к печати: 11 сентября 2023 г.
Выставление онлайн: 22 октября 2023 г.
Приведены данные о чувствительности гетероструктур Ga2O3/GaAs:Cr к длинноволновому и ультрафиолетовому (λ=254 nm) излучениям. Образцы получены высокочастотным магнетронным напылением пленки оксида галлия на не нагретые подложки GaAs:Cr. Пластины арсенида галлия с пленкой Ga2O3 делили на две части: одну половину не подвергали отжигу, а вторую отжигали в аргоне при 500oC в течение 30 min. Независимо от наличия или отсутствия темообработки исследованные структуры проявляли фотовольтаический эффект и способны работать в автономном режиме. Показано, что заметная чувствительность к длинноволновому излучению появляется в образцах только после термического отжига пленок оксида галлия. Времена отклика и восстановления таких детекторов УФ излучения не превышают 1 s. Ключевые слова: темновой ток, фототок, ультрафиолетовое излучение, структуры Ga2O3/GaAs:Cr, автономный режим работы, отжиг.
- W. Mi, J. Ma, Z. Li, C. Luan, H. Xiao. J. Mater. Sci.: Mater. Electron, 26, 7889 (2015). DOI: 10.1007/s10854-015-3440-2
- Y. Zhang, F. Alema, A. Mauze, O.S. Koksaldi, R. Miller, A. Osinsky, J.S. Speck, APL Mater., 7, 022506 (2019). https://doi.org/10.1063/1.5058059
- T. Uchida, R. Jinno, S. Takemoto, K. Kaneko, S. Fujita, Jpn. J. Appl. Phys., 57 (4), 040314 (2018). DOI: 10.7567/JJAP.57.040314
- X. Wang, Z. Chen, D. Guo, X. Zhang, Z. Wu, P. Li, W. Tang. Opt. Mater. Express, 8 (9), 2918 (2018). https://doi.org/10.1364/OME.8.002918
- Z. Li, Z. An, Y. Xu, Y. Cheng, Y. Cheng, D. Chen, Q. Feng, S. Xu, J. Zhang, C. Zhang, Y. Hao. J. Mater. Sci., 54, 10335 (2019)
- M.-Q. Lia, N. Yanga, G.-G. Wanga, H.-Y. Zhanga, J.-C.Hana. Appl. Surf. Sci., 471, 694 (2019). https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.12.045
- В.М. Калыгина, В.В. Вишникина, Ю.С. Петрова, И.А. Прудаев, Т.М. Яскевич. ФТП, 49 (3), 357 (2015)
- J. Yua, J. Louc, Z. Wang, S. Jic, J.Chend, M. Yub, B. Peng, Y. Hu, L. Yuan, Y. Zhang, R. Jia. J. Alloys Compd., 872, 159508 (2021)
- M. Hong, J.P. Mannaerts, J.E. Bower, J. Kwo, M. Passlack, W.-Y. Hwang, L.W. Tu. J. Cryst. Growth, 175, 422 (1997)
- M. Holland, C.R. Stanley, W. Reid, R.J.W. Hill, D.A.J. Moran, I. Thayne, G.W. Paterson, A.R. Long. J. Vac. Sci. Technol. B, 25, 1706 (2007). https://doi.org/10.1116/1.2778690
- J. Hwang, C.C. Chang, M.F. Chen, C.C. Chen, K. Lin, F.C. Tang, M. Hong, J. Kwo. J. Appl. Phys., 94 (1), 348 (2003)
- P.D. Ye, G.D. Wilk, B. Yang, J. Kwo, G. Chu, S. Nakahara, J.P. Mannaerts, M. Hong, K.K. Ng, J.D. Bu. Appl. Phys. Lett., 83 (1), 180 (2003)
- X. Zhang, D. Jiang, M. Zhao, H. Zhang, M. Li, M. Xing, J. Han, A.E. Romanov. J. Phys.: Conf. Series, 1965, 012066 (2021). DOI: 10.1088/1742-6596/1965/1/012066
- B.R. Tak, M.-M. Yang, M. Alexe, R. Singh. Cryst., 11 (9), 1046 (2021). https://doi.org/10.3390/cryst11091046
- L. Huang, Q. Feng, G. Han, F. Li, X. Li, L.Fang, X. Xing, J. Zhang, Y. Hao. IEEE Photon. J., 9 (4), 6803708 (2017)
- Y. Qin, S. Long, H. Dong, Q. He, G. Jian, Y. Zhang, X. Hou, P. Tan, Z. Zhang, H. Lv, Q. Liu, M. Liu. Chin. Phys. B, 28 (1), 018501 (2019). DOI: 10.1088/1674-1056/28/1/018501
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.