Вышедшие номера
Распыление мишени магнетронного диода в присутствии внешнего ионного пучка
Жуков В.В.1, Кривобоков В.П.1, Янин С.Н.1
1Федеральное государственное научное учреждение Научно-исследовательский институт ядерной физики, Томск, Россия
Email: krivobokov@npi.tpu.ru
Поступила в редакцию: 24 мая 2005 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2006 г.

Исследовано воздействие внешнего ионного пучка на плазму и мишень магнетронной распылительной системы на постоянном токе при реактивном осаждении покрытий. Создана экспериментальная установка, объединяющая магнетронный диод и ионный источник с замкнутым дрейфом электронов в единую распылительную систему. Рассмотрено влияние пучка ускоренных ионов на формирование разрядных токов, эмиссионные характеристики мишени и скорость ее травления. Показано, что ионное ассистирование значительно расширяет область рабочих параметров магнетронного диода, увеличивает скорость осаждения покрытия, но при этом не влияет на плотность ионизированных состояний в плазме; также существенно сокращается продолжительность тренировки мишени. PACS: 81.15.Jj