Объемно-плазменная генерация ионов H- в низковольтном ксенон-водородном разряде. II
Бакшт Ф.Г.1, Иванов В.Г.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: baksht@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 1 июня 2006 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2007 г.
Теоретически рассмотрен низкольтный ксенон-водородный разряд при различных токах эмиссии катода (js=2-20 A/cm2) и межэлектродном расстоянии L=1 cm. Проведена оптимизация основных параметров плазмы разряда, в частности полной концентрации водорода и ксенона в объеме, для достижения наибольшей концентрации отрицательных ионов водорода NH-(L) на прианодной границе плазмы. В оптимизированных режимах рассчитаны распределения всех параметров плазмы по длине газоразрядного промежутка. По данным расчетов, при умеренных плотностях тока эмиссии катода js~5-10 A/cm2 в оптимизированных режимах горения разряда концентрация отрицательных ионов водорода в прианодной области плазмы составляет NH-(L)~(1.5-2.5)·1012 cm-3. Полное давление плазмы при этом p0=0.5-0.6 Torr. PACS: 52.80.-s
- Бакшт Ф.Г., Иванов В.Г. // ЖТФ. 2006. Т. 76. Вып. 7. С. 124--128
- Бакшт Ф.Г., Иванов В.Г. // Физика плазмы. 1986. Т. 12. N 3. С. 286--293
- Бакшт Ф.Г., Елизаров Л.И., Иванов В.Г. // Физика плазмы. 1990. Т. 16. N 7. С. 854--861
- Johnson L.C., Hinnov E. // QSRT.1973. Vol. 13. P. 333--358
- Sawada K., Fujimoto T. // J. Appl. Phys. 1995. Vol. 78. N 5. P. 2913--2924
- Shao J.D., Ng C.Y. // J. Chem. Phys. 1986. Vol. 84. N 8. P. 4317--4326
- Larrson M. et al. // Physica Scripta. 1995. Vol. 51. P. 354--358
- Jensen M.J. et al. // Phys. Rev. A. 2000. Vol. 63. N 5. P. 052 701
- Matveyev A.A., Silakov V.P. // Plasma Sources Sci. Technol. 1995. Vol. 4. P. 606--617
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.