Вышедшие номера
Магнетронное распыление Y-Ba-Cu-O мишени: эффекты изменения напряжения разряда и скорости осаждения пленок
Дроздов Ю.Н.1, Мастеров Д.В.1, Павлов С.А.1, Парафин А.Е.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: SVG@ipm.sci-nnov.ru
Поступила в редакцию: 24 января 2008 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2008 г.

Исследованы временные зависимости напряжения разряда и скорости роста эпитаксиальных пленок Y-Ba-Cu-O в магнетронной напылительной системе on-axis конфигурации. Установлено, что при распылении керамической мишени Y-Ba-Cu-O напряжение разряда и скорость осаждения сверхпроводящей фазы уменьшаются со временем и выходят на "квазистационарный" режим по экспоненциальной зависимости. При давлении 100 Pa уменьшение значения индукции магнитного поля вблизи поверхности мишени с 1200 G до 600 G приводит к увеличению напряжения разряда на 25-30%, а скорость осаждения пленок возрастает более чем в два раза. Полученные пленки имеют высокие электрофизические параметры, что продемонстрировано на примере высокочастотного контура: собственная добротность контура на частоте 64.5 MHa составила 2.7· 105. PACS: 74.78.Bz, 85.40.Sz.