Вышедшие номера
Особенности импульсного лазерного осаждения тонкопленочных покрытий с применением противокапельного экрана
Неволин В.Н.1, Фоминский В.Ю.1, Гнедовец А.Г.1, Романов Р.И.1
1Московский инженерно-физический институт (Государственный университет), Москва, Россия
Email: vyfominskij@mephi.ru
Поступила в редакцию: 12 января 2009 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2009 г.

Исследованы особенности формирования тонкопленочных покрытий из диселенида молибдена при осаждении лазерно-инициированного потока вещества, на пути разлета которого от мишени к подложке установлен экран, задерживающий капельную фракцию. Для повышения эффективности рассеяния атомов в теневую область (за экран) осаждение проводилось в инертном газе - аргоне. Установлено, что при повышении давления аргона до 2 Pa в теневой области формировались неплотные покрытия с развитым рельефом. Приложение к подложке отрицательного электростатического потенциала позволяло существенно улучшить качество покрытий. Для выяснения факторов, оказывающих влияние на толщину, химический состав и структуру покрытий MoSex в теневой области, проведены численные эксперименты на основе объединения двух компьютерных моделей, описывающих физические процессы на атомистическом уровне методами Монте-Карло. Результаты расчета динамики лазерно-инициированного потока атомов в камере с экраном применялись при последующем моделировании роста покрытий. Показано, что осаждение рассеянного потока атомов в условиях бомбардировки поверхности падающими частицами могло обусловливать существенное повышение плотности покрытий и сглаживание рельефа поверхности. PACS: 68.55.at, 52.38.Mf, 62.20.Qp