Журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Получение атомарно-чистых поверхностей кремния в низкоэнергетичной СВЧ-плазме низкого давления
1Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН, Саратов, Россия 
Email: pirpc@renet.ru
Поступила в редакцию: 28 января 2009 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2009 г.
Исследованы закономерности влияния режимов и химического состава низкоэнергетичной высокоионизованной плазмы электронно-циклотронного резонанса СВЧ газового разряда низкого давления на скорость травления и наноморфологию поверхности монокристаллического кремния различных кристаллографических ориентаций. Рассмотрены модельные механизмы процессов, обеспечивающих управление скоростью и качеством атомарно-чистых поверхностей травления кремниевых кристаллов заданных ориентаций. PACS: 52.77.Bn
- Оура К., Лифшиц В.Г., Саранин А.А., Зотов А.В., Катаяма М. Введение в физику поверхности. М.: Наука, 2006. 490 с
- Технология СБИС / Под ред. С. Зи. М.: Мир, 1985. 404 с
- Вигдорович В.Н., Гуляев Ю.В., Яфаров Р.К. // ДАН. 1988. Т. 300. N 3. С. 604
- Гуляев Ю.В., Яфаров Р.К. // Зарубежная электронная техника. 1997. N 1. С. 77
- Данилин Б.С., Киреев В.Ю. // Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. 264 с
- Гуляев Ю.В., Яфаров Р.К. Эффективность использования мощности в установках СВЧ вакуумно-плазменной обработки структур микроэлектроники. М., 1989. 53 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
