Адсорбционные слои воды на поверхности тонких пленок оксида алюминия
Сайко Д.С., Ганжа В.В., Титов С.А., Арсентьев И.Н., Костюченко А.В., Солдатенко С.А.1
1Воронежский государственный технический университет, Воронеж, Россия
Email: alsajko@box.vsi.ru
Поступила в редакцию: 10 марта 2009 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2009 г.
Описано влияние ненасыщенных паров воды на кварцевые резонаторы, на поверхности которых путем магнетронного распыления были сформированы оксидные пленки. Описана методика высокопрочных измерений влияния малых концентраций паров на изменение частот кварцевых генераторов. Предложено новое модельное описание процесса адсорбции на поверхности Al2O3. Модель позволяет перечислить слои воды, образующиеся на поверхности, и установить число слоев в зависимости от условий эксперимента. Оценки параметров адсорбции согласуются с известными экспериментальными данными и результатами, полученными в работах других авторов. PACS: 68.43.Mn; 73.20Hb
- Григоришин И.Л., Мардилович П.П., Мухуров Н.И., Трохимцев А.И. // Изв. АН БССР. Сер. Физ.-мат. наук. 1984. N 3. С. 61-64
- Киселев В.Ф., Крылов О.В. Адсорбционные процессы на поверхности полупроводников и диэлектриков. М.: Наука, 1978. 256 с
- Sauerbrey G.G. // Z. Phys. 1959. Bd 155. S. 206-221
- Кубо Р. Статистическая механика. М.: Мир, 1967. 452 с
- Бринауэр С. Адсорбция газов и паров. Т. 1. Физическая адсорбция. М.: ИЛ, 1948. 781 с
- Минкин В.И., Симкин Б.Я., Миняев Р.М. Теория строения молекул. М. Высш. шк. 1979. 409 с
- Mombourquette M.J., Wiel J.A. // Can. J. Physics. 1985. Vol. 63. N 4. P. 1282-1293
- Polak E. Computational Methods in Optimization. NY: Academic Press, 1971
- Vlaev L., Damianov D., Mohamed M.M. // Colloids and surfaces. 1989. Vol. 27. P. 427-437
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.