"Физика и техника полупроводников"
Издателям
Вышедшие номера
Влияние ионно-лучевой обработки в процессе реактивного высокочастотного магнетронного распыления на макронапряжения ITO пленок
Крылов П.Н.1, Закирова Р.М.1, Федотова И.В.1
1Удмуртский государственный университет, Ижевск, Россия
Поступила в редакцию: 15 октября 2013 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2014 г.

Прозрачные проводящие пленки оксида индия, легированного оловом, получены методом чередующихся процессов реактивного ВЧ магнетронного распыления и ионной обработки. Рентгенографически исследованы напряженные состояния ITO пленок. Показано влияние технологических режимов на изменение макронапряжений в пленках ITO.
  • А.П. Достанько, С.М. Завадский, Д.А. Голосов, М.В. Евстафьева, Ли Динь Ви. Тез. док. VII Междунар. науч.-техн. конф. (Минск, 2012) с. 80
  • J.C.C. Fan. Appl. Phys. Lett., 34, 515 (1979)
  • W.F. Wu, B.S. Chiou. Thin Sol. Films, 247, 201 (1994)
  • L. Kerkache, A. Layadi, E. Dogheche, D. Remiens. J. Phys. D: Appl. Phys., 39, 184 (2006)
  • W. Wohlmutha, I. Adesida. Thin Sol. Films, 479, 223 (2005)
  • H.J. Kim, J.W. Bae, J.S. Kim, K.S. Kim, Y.C. Jang, G.Y. Yeom, N.-E. Lee. Thin Sol. Films, 377-- 378, 115 (2000)
  • В.А. Зиновьев. Автореф. канд. дис. (Новосибирск, 2004)
  • N.A.G. Ahmed. Surf. Coat. Technol., 71, 82 (1995)
  • C.A. Davis. Thin Sol. Films, 226, 30 (1993)
  • А.Р. Шунгуров, А.В. Панин. Физ. мезомеханика, 12 (3), 23 (2009)
  • В.М. Ветошкин, Р.М. Закирова, П.Н. Крылов. ВТТ, 21 (1), 57 (2011)
  • П.Н. Крылов, Р.М. Закирова, И.В. Федотова, Ф.З. Гильмутдинов. ФТП, 47 (6), 859 (2013)
  • С.С. Горелик, Ю.А. Скаков, Л.Н. Расторгуев. Рентгенографический и электроннографический анализ (М., МИСИС, 2002)
  • А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак. ФИП, 10 (4), 342 (2012)
  • Z. Qiao, R. Latz, D. Mergel. Thin Sol. Films, 466, 250 (2004)
  • Е.В. Берлин, Л.А. Сейдман. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии (М., Техносфера, 2010)
  • N. Boonyopakorn, N. Sripogpun, C. Thanachayanont, S. Dangtip. Chin. Phys. Lett., 27 (10), 108 103 (2010)
  • P. Mohan Babu, B. Radhakrishna, G. Venkata Rao, P. Sreedhara Reddy, S. Uthanna. J. Optoelectron. Adv. Mater., 6 (1), 205 (2004)
  • A. Uv zupis, B. Vengalis, V. Lisauskas, S. Tamuleviv cius, L. Augulis. Mater. Sci. (Medv ziagotyra), 12(4), 297 (2006)
  • L.-J. Meng, J. Gao, V. Teixeira, M.P. dos Santos. Phys. Status Solidi A-applications and Mater. Sci., 205 (8), 1961 (2008)
  • K. Seshan. Handbook of Thin-Film Deposition Processes and Technologies (N.Y., Noyes Publication, 2002) chap. 11
  • А.И. Калиниченко, С.С. Перепелкин, В.Е. Стрельницкий. ВАНТ, 91 (6), 116 (2007)
  • A.R. Gonzalez-Elipe, F. Yubero, J.M. Sanz. Low Energy Ion Assisted Film Growth (London, Imperial College Press, 2003)
  • В.И. Павленко, С.Н. Слепцов, В.И. Сафонов. ВАНТ, 93 (2), 31 (2009)
  • П.Н. Крылов, Р.М. Закирова, И.В. Федотова. ФТП, 47 (10), 1421 (2013)
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.