В основу модели плазменного размыкателя положено рассмотрение динамики холловских слоев дрейфа электронов в скрещенных полях. Один из них представляет собой прикатодный слой магнитной самоизоляции нейтрализованного ионами потока электронов, а другой - радиальный токовый слой, перемещающийся в глубь инжектированной плазмы вдоль оси коаксиальной линии. Выход последнего на границу исходной области инжекции исчерпывает возможности дальнейшего роста тока, а последующий быстрый спад тока создает индуктивный скачок напряжения. Нагрев токового слоя сопровождается формированием распространяющегося к нагрузке ep-пучка, приход которого вызывает появление тока в нагрузке. Выводы модели сравниваются с данными экспериментов по сжатию импульсов в микросекундном и наносекундном диапазонах.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.