Вышедшие номера
Формирование наноразмерных пленок силицидов на поверхности Si(111) и Si(100) методом низкоэнергетической ионной имплантации
Рысбаев А.С.1, Хужаниязов Ж.Б.1, Рахимов А.М.1, Бекпулатов И.Р.1
1Ташкентский государственный технический университет, Ташкент, Узбекистан
Email: rysbaev@mail.ru
Поступила в редакцию: 16 января 2014 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2014 г.

Методами электронной спектроскопии и дифракции медленных электронов исследованы процессы формирования наноразмерных пленок силицидов при имплантации ионов В, Р, Ва и щелочных элементов в Si(111) и Si(100) и последующем термическом отжиге. Показано, что имплантация ионов с большой дозой D > 1016 cm-2 и кратковременный прогрев приводят к образованию тонких пленок силицидов с новыми поверхностными сверхструктурами: Si(111)-(sqrt(3)sqrtR30o-B, Si(100)-2x2Ba, Si(111)-1x1P и др.