Журнал технической физики

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2025
- 1 2 3 4
2024
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Моделирование процесса резистивного динамического испарения в вакууме

DOI: 10.21883/JTF.2017.10.44990.1848

Министерство образования и науки Российской Федераци, Грант Президента Российской Федерации для поддержки молодых российских ученых - докторов наук, МД-5205.2016.9

Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), Конкурс проектов фундаментальных научных исследований, 16-07-00494

Казанский Н.Л.

¹, Колпаков В.А.

², Кричевский С.В.

², Подлипнов В.В.

^2,1

¹ИСОИ РАН --- филиал ФНИЦ Кристаллография и фотоника" РАН, Самара, Россия
²Самарский национальный исследовательский университет им. академика С.П. Королева, Самара, Россия Samara National Research University, Samara, Russia

Samara National Research University, Samara, Russia

Email: kazansky@smr.ru, kolpakov683@gmail.com, podlipnovvv@ya.ru

Поступила в редакцию: 12 апреля 2016 г.

Выставление онлайн: 19 сентября 2017 г.

PDF версия

Представлена модель процесса резистивного динамического испарения в вакууме, учитывающая конструктивные особенности соответствующего испарителя. В рамках модели получены зависимости для определения времени нагрева материала до температуры испарения, а также динамических характеристик процесса испарения. Показано, что полученные характеристики являются негармоническими и периодически повторяющимися. Подтверждена адекватность разработанной модели физическому процессу. Установлено, что расхождение между экспериментальными и расчетными временными характеристиками движения заслонки составило не более 5%. Даны рекомендации по использованию предложенной модели в технологических процессах формирования тонких пленок многокомпонентных материалов методами термовакуумного испарения. DOI: 10.21883/JTF.2017.10.44990.1848

Jaeger R.C. Film Deposition: Introduction to Microelectronic Fabrication (2nd ed.). N. J.: Prentice Hall, 2002. 332 p
Aldridge J.S., Cleland A.N., Knobel R., Schmidt D.R., Yung C.S. In International Symposium on Microelectronics and MEMS. International Society for Optics and Photonics. 2001. P. 11--21
Dai Z.R., Pan Z.W., Wang Z.L. // Advanced Functional Materials. 2003. Vol. 13. N 1. P. 9--24
Diffractive nanophotonics / Ed. by V.A. Soifer. London: Taylor and Francis, 2014. 704 p
Amirhaghi S., Craciun V., Craciun D., Elders J., Boyd I.W. // Microelectronic engineering. 1994. Vol. 25. N 2--4. P. 321--326
Botman A. et al. // Nanotechnology. 2006. Vol. 17. N 15. P. 3779
Грицюк Б.Н. и др. // ЖТФ. 2001. Т. 71. Вып. 9. С. 54--57
Mattox D.M. // Products Finishing-Cincinnati. 1999. N 63. P. 48--58
Suryanarayana C., Yoo S.H., Groza J.R. // J. Mater. Sci. Lett. 2001. Vol. 20. N 24. P. 2179--2181
Wu Y.L. et al. // Thin Solid Films. 1989. Vol. 168. N 1. P. 113--122
Сойфер В.А., Казанский Н.Л., Колпаков В.А., Колпаков А.И., Подлипнов В.В. // Патент RU2348738. 2009
Powell A. et al. // Metallurgical and Materials Transactions A. 2001. Vol. 32. N 8. P. 1959--1966
Frezzotti A. // European J. Mechanics B/Fluids. 2007. Vol. 26. N 1. P. 93--104
Yan H. et al. // Materials Research Bulletin. 2009. Vol. 44. N 10. P. 1954--1958
Shah N.M. et al. // Thin Solid Films. 2009. Vol. 517. N 13. P. 3639--3644
Cochelin E. et al. // J. Thermal Spray Technology. 1999. Vol. 8. N 1. P. 117--124
Tachibana K., Nishida M., Harima H., Urano Y. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1984. Vol. 17. N 8. P. 1727
Elimelech M., Gregory J., Jia X. Particle deposition and aggregation: measurement, modelling and simulation. Butterworth--Heinemann, 1995. 440 p
Moarrefzadeh A., Branch M. // Wseas Transactions on Applied and Theoretical Mechanics. 2012. Vol. 7. N 2. P. 106--111
Lalitha S., Sathyamoorthy R., Senthilarasu S., Subbarayan A., Natarajan K. // Solar Energy Materials and Solar Cells. 2004. Vol. 82. N 1. P. 187--199
Tobias J.S., Birkmire R.W., Doyle F.J. // AIChE J. 2005. Vol. 51. N 3. P. 878--894
Adachi Sadao, Toshifumi Kimura // Japan. J. Appl. Phys. 1993. Vol. 32. N 8. P. 3496
Labuntsov D.A., Kryukov A.P. // Inter. J. Heat and Mass Transfer. 1979. Vol. 22. N 7. P. 989--1002
Isaacs L.L., Wang W.Y. // Therm. Conduct. 1981. N 17. P. 55--61
Маркелов Н.В., Волга В.И., Бучнев Л.М. // Журн. физ. химии. 1973. Т. 47. Вып. 7. С. 1824--1827
Блох А.Г. Основы теплообмена излучением. М.: Госэнергоиздат, 1962. 332 с
Howell J.R., Menguc M.P., Siegel R. Thermal radiation heat transfer. London: Taylor and Francis, 2010. 857 p
Powell K.M., Edgar T.F. // Chem. Engin. Sci. 2012. Vol. 71. P. 138--145
Wu Z., Li S., Yuan G., Lei D., Wang Z. // Appl. Energy. 2014. Vol. 113. P. 902--911
Arfken G.B., Weber H.J., Harris F.E. Mathematical methods for physicists: a comprehensive guide (7th ed.). N. Y.: Academic Press, 2012. 717 p
Toma O., Ion L., Girtan M., Antohe S. // Solar Energy. 2014. Vol. 108. P. 51--60
Brus V.V., Solovan M.N., Maistruk E.V., Kozyarskii I.P., Maryanchuk P.D., Ulyanytsky K.S., Rappich J. // Phys. Sol. Stat. 2014. Vol. 56. N 10. P. 1947--1951
Боброва Е.А., Клевков Ю.В., Черноок С.Г., Сентюрина Н.Н. // ФТП. 2014. Т. 48. Вып. 3. C. 421--427
Crout D. // J. Mathematics and Physics. 1936. Vol. 15. N 1. P. 1--54
Kauzmann W. Kinetic theory of gases. N. Y: Dover Publications, 2012. 249 p
Сивухин Д.В. Общий курс физики. Т. 2. Термодинамика и молекулярная физика (5-е изд.). М.: Физматлит, 2005. 544 с
Wu Y.S. // Phys. Rev. Lett. 1994. Vol. 73. N 7. P. 922--925
Farrow R.F.C. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1974. Vol. 7. N 17. P. 2436
Oh C.K., Oran E.S., Sinkovits R.S. // J. Thermophysics and Heat Transfer. 1997. Vol. 11. N 4. P. 497--505
Hoyst R., Litniewski M. // The J. Chem. Phys. 2009. Vol. 130. N 7. P. 074707
Stops D.W. // J. Phys. D: Appl. Phys
Печатников Ю.М. // ЖТФ. 2003. Т. 73. Вып. 8. С. 40--44
Любитов Ю.Н. // УФН. 1976. Т. 119. Вып. 8. С. 641--688
Winterbottom W.L., Hirth J.P. // The J. Chem. Phys. 1962. Vol. 37. N 4. P. 784--793
Kennard E.H. Kinetic Theory of Gases. N. Y.: McGraw-Hill, 1938. 496 p
Smith G.D. Numerical solution of partial differential equations: finite difference methods. Oxford: Oxford university press, 1985. 339 p
Колпаков В.А., Кричевский С.В., Подлипнов В.В. // ПТЭ. 2017. N 2. С. 1--4.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель