Вышедшие номера
Home » Журнал технической физики » Год 2017, выпуск 10 » Статья стр. 1483
<<<>>>
Моделирование процесса резистивного динамического испарения в вакууме
DOI: 10.21883/JTF.2017.10.44990.1848
Министерство образования и науки Российской Федераци, Грант Президента Российской Федерации для поддержки молодых российских ученых - докторов наук, МД-5205.2016.9
Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), Конкурс проектов фундаментальных научных исследований, 16-07-00494
Казанский Н.Л. 1, Колпаков В.А. 2, Кричевский С.В. 2, Подлипнов В.В. 2,1
1ИСОИ РАН --- филиал ФНИЦ Кристаллография и фотоника" РАН, Самара, Россия
2Самарский национальный исследовательский университет им. академика С.П. Королева, Самара, Россия
Email: kazansky@smr.ru, kolpakov683@gmail.com, podlipnovvv@ya.ru
Поступила в редакцию: 12 апреля 2016 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2017 г.
PDF версия
Представлена модель процесса резистивного динамического испарения в вакууме, учитывающая конструктивные особенности соответствующего испарителя. В рамках модели получены зависимости для определения времени нагрева материала до температуры испарения, а также динамических характеристик процесса испарения. Показано, что полученные характеристики являются негармоническими и периодически повторяющимися. Подтверждена адекватность разработанной модели физическому процессу. Установлено, что расхождение между экспериментальными и расчетными временными характеристиками движения заслонки составило не более 5%. Даны рекомендации по использованию предложенной модели в технологических процессах формирования тонких пленок многокомпонентных материалов методами термовакуумного испарения. DOI: 10.21883/JTF.2017.10.44990.1848
  1. Jaeger R.C. Film Deposition: Introduction to Microelectronic Fabrication (2nd ed.). N. J.: Prentice Hall, 2002. 332 p
  2. Aldridge J.S., Cleland A.N., Knobel R., Schmidt D.R., Yung C.S. In International Symposium on Microelectronics and MEMS. International Society for Optics and Photonics. 2001. P. 11--21
  3. Dai Z.R., Pan Z.W., Wang Z.L. // Advanced Functional Materials. 2003. Vol. 13. N 1. P. 9--24
  4. Diffractive nanophotonics / Ed. by V.A. Soifer. London: Taylor and Francis, 2014. 704 p
  5. Amirhaghi S., Craciun V., Craciun D., Elders J., Boyd I.W. // Microelectronic engineering. 1994. Vol. 25. N 2--4. P. 321--326
  6. Botman A. et al. // Nanotechnology. 2006. Vol. 17. N 15. P. 3779
  7. Грицюк Б.Н. и др. // ЖТФ. 2001. Т. 71. Вып. 9. С. 54--57
  8. Mattox D.M. // Products Finishing-Cincinnati. 1999. N 63. P. 48--58
  9. Suryanarayana C., Yoo S.H., Groza J.R. // J. Mater. Sci. Lett. 2001. Vol. 20. N 24. P. 2179--2181
  10. Wu Y.L. et al. // Thin Solid Films. 1989. Vol. 168. N 1. P. 113--122
  11. Сойфер В.А., Казанский Н.Л., Колпаков В.А., Колпаков А.И., Подлипнов В.В. // Патент RU2348738. 2009
  12. Powell A. et al. // Metallurgical and Materials Transactions A. 2001. Vol. 32. N 8. P. 1959--1966
  13. Frezzotti A. // European J. Mechanics B/Fluids. 2007. Vol. 26. N 1. P. 93--104
  14. Yan H. et al. // Materials Research Bulletin. 2009. Vol. 44. N 10. P. 1954--1958
  15. Shah N.M. et al. // Thin Solid Films. 2009. Vol. 517. N 13. P. 3639--3644
  16. Cochelin E. et al. // J. Thermal Spray Technology. 1999. Vol. 8. N 1. P. 117--124
  17. Tachibana K., Nishida M., Harima H., Urano Y. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1984. Vol. 17. N 8. P. 1727
  18. Elimelech M., Gregory J., Jia X. Particle deposition and aggregation: measurement, modelling and simulation. Butterworth--Heinemann, 1995. 440 p
  19. Moarrefzadeh A., Branch M. // Wseas Transactions on Applied and Theoretical Mechanics. 2012. Vol. 7. N 2. P. 106--111
  20. Lalitha S., Sathyamoorthy R., Senthilarasu S., Subbarayan A., Natarajan K. // Solar Energy Materials and Solar Cells. 2004. Vol. 82. N 1. P. 187--199
  21. Tobias J.S., Birkmire R.W., Doyle F.J. // AIChE J. 2005. Vol. 51. N 3. P. 878--894
  22. Adachi Sadao, Toshifumi Kimura // Japan. J. Appl. Phys. 1993. Vol. 32. N 8. P. 3496
  23. Labuntsov D.A., Kryukov A.P. // Inter. J. Heat and Mass Transfer. 1979. Vol. 22. N 7. P. 989--1002
  24. Isaacs L.L., Wang W.Y. // Therm. Conduct. 1981. N 17. P. 55--61
  25. Маркелов Н.В., Волга В.И., Бучнев Л.М. // Журн. физ. химии. 1973. Т. 47. Вып. 7. С. 1824--1827
  26. Блох А.Г. Основы теплообмена излучением. М.: Госэнергоиздат, 1962. 332 с
  27. Howell J.R., Menguc M.P., Siegel R. Thermal radiation heat transfer. London: Taylor and Francis, 2010. 857 p
  28. Powell K.M., Edgar T.F. // Chem. Engin. Sci. 2012. Vol. 71. P. 138--145
  29. Wu Z., Li S., Yuan G., Lei D., Wang Z. // Appl. Energy. 2014. Vol. 113. P. 902--911
  30. Arfken G.B., Weber H.J., Harris F.E. Mathematical methods for physicists: a comprehensive guide (7th ed.). N. Y.: Academic Press, 2012. 717 p
  31. Toma O., Ion L., Girtan M., Antohe S. // Solar Energy. 2014. Vol. 108. P. 51--60
  32. Brus V.V., Solovan M.N., Maistruk E.V., Kozyarskii I.P., Maryanchuk P.D., Ulyanytsky K.S., Rappich J. // Phys. Sol. Stat. 2014. Vol. 56. N 10. P. 1947--1951
  33. Боброва Е.А., Клевков Ю.В., Черноок С.Г., Сентюрина Н.Н. // ФТП. 2014. Т. 48. Вып. 3. C. 421--427
  34. Crout D. // J. Mathematics and Physics. 1936. Vol. 15. N 1. P. 1--54
  35. Kauzmann W. Kinetic theory of gases. N. Y: Dover Publications, 2012. 249 p
  36. Сивухин Д.В. Общий курс физики. Т. 2. Термодинамика и молекулярная физика (5-е изд.). М.: Физматлит, 2005. 544 с
  37. Wu Y.S. // Phys. Rev. Lett. 1994. Vol. 73. N 7. P. 922--925
  38. Farrow R.F.C. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1974. Vol. 7. N 17. P. 2436
  39. Oh C.K., Oran E.S., Sinkovits R.S. // J. Thermophysics and Heat Transfer. 1997. Vol. 11. N 4. P. 497--505
  40. Hoyst R., Litniewski M. // The J. Chem. Phys. 2009. Vol. 130. N 7. P. 074707
  41. Stops D.W. // J. Phys. D: Appl. Phys
  42. Печатников Ю.М. // ЖТФ. 2003. Т. 73. Вып. 8. С. 40--44
  43. Любитов Ю.Н. // УФН. 1976. Т. 119. Вып. 8. С. 641--688
  44. Winterbottom W.L., Hirth J.P. // The J. Chem. Phys. 1962. Vol. 37. N 4. P. 784--793
  45. Kennard E.H. Kinetic Theory of Gases. N. Y.: McGraw-Hill, 1938. 496 p
  46. Smith G.D. Numerical solution of partial differential equations: finite difference methods. Oxford: Oxford university press, 1985. 339 p
  47. Колпаков В.А., Кричевский С.В., Подлипнов В.В. // ПТЭ. 2017. N 2. С. 1--4.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2025 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme