Вышедшие номера
Home » Журнал технической физики » Год 2025, выпуск 1 » Статья стр. 79
<<<>>>
Нанодоменная инженерия в тонких пленках LNOI на неполярной поверхности
Боднарчук Я.В.1, Гайнутдинов Р.В.1, Волк Т.Р.1
1Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова, КККиФ, Москва, Россия
Email: deuten@mail.ru, rgaynutdinov@gmail.com, volk-1234@yandex.ru
Поступила в редакцию: 5 сентября 2024 г.
В окончательной редакции: 15 октября 2024 г.
Принята к печати: 17 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 6 января 2025 г.
PDF версия
Представлены результаты записи микро- и нанодоменных структур заданной конфигурации в тонкой пленке LNOI (LiNbO3-on-insulator) неполярной (Х-) ориентации полем зонда атомно-силового микроскопа и обсуждены их свойства. Исследование доменных структур проведено методом микроскопии пьезоотклика. Получены зависимости длины доменов от длительности импульса и напряжения, которые хорошо подчиняются экспоненциальной и линейной функциям соответственно. Измерены пьезоэлектрические петли гистерезиса и произведена оценка коэрцитивных и смещающих напряжений. Анализ петель гистерезиса показал, что величины коэрцитивных и смещающих напряжений практически не зависят от времени импульса подаваемого на зонд напряжения. Ключевые слова: доменные структуры, тонкая пленка, атомно-силовая микроскопия, ниобат лития.
  1. Л.С. Коханчик, М.В. Бородин, С.М. Шандаров, Н.И. Буримов, В.В. Щербина, Т.Р. Волк. ФТТ, 52 (8), 1602 (2010). [L.S. Kokhanchik, M.V. Borodin, S.M. Shandarov, N.I. Burimov, V.V. Shcherbina, T.R. Volk. Physics Solid State, 52 (8), 1722 (2010). DOI: 10.1134/S106378341008024X]
  2. L.S. Kokhanchik, M.V. Borodin, N.I. Burimov, S.M. Shandarov, V.V. Shcherbina, T.R. Volk. IEEE Transactions on Ultrasonics, Ferroelectrics and Waveguide Applications 59, 1076 (2012). DOI: 10.1109/TUFFC.2012.2298
  3. T.R. Volk, L.S. Kokhanchik, R.V. Gainutdinov, Y.V. Bodnarchuk, S.M. Shandarov, M.V. Borodin. J. Lightwave Tech., 33 (23), 4761 (2015). DOI: 10.1109/JLT.2015.2480496
  4. D. Lavrov, L.S. Kokhanchik, R.V. Gainutdinov, A.S. Elshin, Ya.V. Bodnarchuk, E.D. Mishina, T.R. Volk. Opt. Mater., 75, 325 (2018). DOI: 10.1016/j.optmat.2017.10.046
  5. S.M. Shandarov, L.S. Kokhanchik, T.R. Volk, E.N. Savchenkov, M.V. Borodin. Quant. Electron., 48, 761 (2018). DOI: 10.1070/QEL16710
  6. R.V. Gainutdinov, T.R. Volk, H. Zhang. Appl. Phys. Lett., 107, 162903 (2015). DOI: 10.1063/1.4934186
  7. T.R. Volk, R.V. Gainutdinov, H. Zhang. Appl. Phys. Lett., 110, 132905 (2017). DOI: 10.1063/1.4978857
  8. T.R. Volk, R.V. Gainutdinov, H. Zhang. Crystals, 7, 137 (2017). DOI: 10.3390/cryst7050137
  9. R. Gainutdinov, T. Volk. Crystals, 10, 1160 (2020). DOI: 10.3390/cryst10121160
  10. T.R. Volk, L.S. Kokhanchik, R.V. Gainutdinov, Y.V. Bodnarchuk, S.D. Lavrov. J. Аdv. Dielectrics, 8 (2), 1830001 (2018). DOI: 10.1142/S2010135X18300013
  11. А.В. Анкудинов, А.Н. Титков. ФТТ, 47, 1110 (2005)
  12. A. Kholkin, S. Kalinin, A. Roelofs, A. Gruverman. Review of Ferroelectric domain imaging by piezoresponse force microscopy (Scanning Probe Microscopy. S. Kalinin, A. Gruverman. Ed.: Springer, NY., 2007), р. 173-214
  13. B.N. Slautin, A.P. Turygin, E.D. Greshnyakov, A.R. Akhmatkhanov, H. Zhu, V.Ya. Shur. Appl. Phys. Lett., 116, 152904 (2020). DOI: 10.1063/5.0005969
  14. A. Prencipe, K. Gallo. IEEE J. Quant. Electron., 59 (3), 0600108 (2023). DOI: 10.1109/JQE.2023.3234986
  15. D. Sun, Y. Zhang, D. Wang, W. Song, X. Liu, J. Pang, D. Geng, Y. Sang, H. Liu. Light: Sci. Applicat., 9, 197 (2020). DOI: 10.1038/s41377-020-00434-0
  16. J. Ma, N. Zheng, P. Chen, X. Xu, Y. Zhu, Yu. Nie, Sh. Zhu, M. Xiao, Y. Zhang. Opt. Express, 32 (8), 14801 (2024). DOI: 10.1364/OE.518885
  17. J. Seidel, L.W. Martin, Q. He, Q. Zhan, Y.-H. Chu, A. Rother, M.E. Hawkridge, P. Maksymovych, P. Yu, M. Gajek, N. Balke, S.V. Kalinin, S. Gemming, F. Wang, G. Catalan, J.F. Scott, N.A. Spaldin, J. Orenstein, R. Ramesh. Nat. Mater., 8, 229 (2009). DOI: 10.1038/nmat2373
  18. G. Catalan, J. Seidel, R. Ramesh, J.F. Scott. Rev. Mod. Phys., 84, 119 (2012). DOI: 10.1103/RevModPhys.84.119
  19. P.S. Bednyakov, B.I. Sturman, T. Sluka, A.K. Tagantsev, P.V. Yudin. Comp. Mater., 4, 65 (2018). DOI: 10.1038/s41524-018-0121-8
  20. M. Rusing, P.O. Weigel, J. Zhao, S. Mookhrjea. IEEE Nanotechnol. Magazine, 13, 18 (2019). DOI: 10.1109/MNANO.2019.2916115
  21. V. Gopalan, Q. Jia, T.E. Mitchell. Appl. Phys. Lett., 75 (16), (1999). DOI: 10.1063/1.125055
  22. Ya.V. Bodnarchuk, R.V. Gainutdinov, T.R. Volk, F. Chen. J. Lightwave Technol., 40, 5231 (2022). DOI: 10.1109/JLT.2022.3175021

Учредители

Издатель

© 2025 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme