Метод формирования кристаллических наноструктур из аморфных пленок диоксида ванадия
Комонов А.И.1, Манцуров Н.Д.1, Волошин Б.В.1, Селезнев В.А.1, Кичай В.Н.2, Яковкина Л.В.2, Мутилин С.В.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия

Email: komonov@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 23 апреля 2025 г.
В окончательной редакции: 23 апреля 2025 г.
Принята к печати: 23 апреля 2025 г.
Выставление онлайн: 21 августа 2025 г.
Предложен метод прецизионного формирования кристаллических наноструктур диоксида ванадия из тонких сплошных амфорных пленок оксида ванадия, выращенных на подложках кремния. Высокая точность формируемых нанообъектов достигнута за счет использования технологий атомно-слоевого осаждения и окислительной сканирующей зондовой литографии. Кристаллизация сформированных аморфных наноструктур происходит в результате температурного отжига в вакууме, при этом размер формируемых нанокристаллов задается толщиной исходной аморфной пленки и геометрией аморфных наноструктур. Получены как одиночные поликристаллические наноструктуры, так и упорядоченные массивы наноструктур, состоящих из групп одиночных нанокристаллов. Латеральные размеры кристаллических наноструктур составили менее 100 nm. Размер одиночных нанокристаллов диоксида ванадия составил от 5 nm в высоту и от 50 nm в диаметре. Ключевые слова: атомно-слоевое осаждение, окислительная сканирующая зондовая литография, послеростовой отжиг, наноструктуры и нанокристаллы диоксида ванадия.
- M. Coll, J. Fontcuberta, M. Althammer, M. Bibes, H. Boschker, A. Calleja, G. Cheng, M. Cuoco, R. Dittmann, B. Dkhil, I.El Baggari, M. Fanciulli, I. Fina, E. Fortunato, C. Frontera, S. Fujita, V. Garcia, S.T.B. Goennenwein, C.-G. Granqvist, J. Grollier, R. Gross, A. Hagfeldt, G. Herranz, K. Hono, E. Houwman, M. Huijben, A. Kalaboukhov, D.J. Keeble, G. Koster, L.F. Kourkoutis, J. Levy, M. Lira-Cantu, J.L. MacManus-Driscoll, J. Mannhart, R. Martins, S. Menzel, T. Mikolajick, M. Napari, M.D. Nguyen, G. Niklasson, C. Paillard, S. Panigrahi, G. Rijnders, F. Sanchez, P. Sanchis, S. Sanna, D.G. Schlom, U. Schroeder, K.M. Shen, A. Siemon, M. Spreitzer, H. Sukegawa, R. Tamayo, J. van den Brink, N. Pryds, F.M. Granozio. Appl. Surf. Sci., 482, 1 (2019). DOI: 10.1016/j.apsusc.2019.03.312
- P. Hu, P. Hu, T. Vu, M. Li, S. Wang, Y. Ke, X. Zeng, L. Mai, Y. Long. Chem. Rev., 123, 4353 (2023). DOI: 10.1021/acs.chemrev.2c00546
- A. Kumar, A. Kumar, A. Kandasami, V. Singh. J. Supercond. Nov. Magn., 37, 475 (2024). DOI: 10.1007/s10948-024-06705-w
- B. Mun, K. Chen, J. Yoon, C. Dejoie, N. Tamura, M. Kunz, Z. Liu, M.E. Grass, S. Mo, C. Park, Y.Y. Lee, H. Ju. Phys. Rev. B, 84, 113109 (2011). DOI: 10.1103/PhysRevB.84.113109
- A. Goncalves, J. Resende, A.C. Marques, J.V. Pinto, D. Nunes, A. Marie, R. Goncalves, L. Pereira, R. Martins, E. Fortunato. Sol. Energy Master Sol. Cells, 150, 1 (2016). DOI: 10.1016/j.solmat.2016.02.001
- G. Stefanovich, A. Pergament, D. Stefanovich. J. Phys.: Condens. Matter, 12, 8837 (2000). DOI: 10.1088/0953-8984/12/41/310
- C. Wu, X. Zhang, J. Dai, J. Yang, Z. Wu, S. Wei, Y. Xie. J. Mater. Chem., 21, 4509 (2011). DOI: 10.1039/C0JM03078C
- A. Cavalleri, C. Toth, C.W. Siders, J.A. Squier, F. Raksi, P. Forget, J.C. Kieffer. Phys. Rev. Lett., 87, 237401 (2001). DOI: 10.1103/PhysRevLett.87.237401
- J. Cao, E. Ertekin, V. Srinivasan, W. Fan, S. Huang, H. Zheng, J.W.L. Yim, D.R. Khanal, D.F. Ogletree, J.C. Grossman, J. Wu. Nat. Nanotechnol., 4, 732 (2009). DOI: 10.1038/nnano.2009.266
- C.L. Tien, C.Y. Chiang, C.C. Wang, S.C. Lin. Materials, 17, 2382 (2024). DOI: 10.3390/ma17102382
- M. Darwish, Y. Zhabura, L. Pohl. Nanomaterials, 14, 582 (2024). DOI: 10.3390/nano14070582
- F. Xu, X. Cao, H. Luo, P. Jin. J. Mater. Chem. C, 6, 1903 (2018). DOI: 10.1039/c7tc05768g
- C.E. Reese, A.V. Mikhonin, M. Kamenjicki, A. Tikhonov, S.A. Asher. J. Am. Chem. Soc., 126, 1493 (2004). DOI: 10.1021/ja037118a
- M. Liu, R. Wei, J. Taplin, W. Zhang. Materials, 16, 7106 (2023). DOI: 10.3390/ma16227106
- R. Yuan, P.J. Tiw, L. Cai, Z. Yang, C. Liu, T. Zhang, C. Ge, Ru. Huang, Y. Yang. Nat. Commun., 14, 3695 (2023). DOI: 10.1038/s41467-023-39430-4
- C. Wen, L. Feng, Z. Li, J. Bai, S. Wang, X. Gao, J. Wang, W. Yao. Front. Mater., 11, 1341518 (2024). DOI: 10.3389/fmats.2024.1341518
- S.A. Corr, D.P. Shoemaker, B.C. Melot, R. Seshadri. Phys. Rev. Lett., 105, 056404 (2010). DOI: 10.1103/PhysRevLett.105.056404
- H. Guo, K. Chen, Y. Oh, K. Wang, C. Dejoie, S.A. Syed Asif, O.L. Warren, Z.W. Shan, J. Wu, A.M. Minor. Nano Lett., 11, 3207 (2011). DOI: 10.1021/nl201460v
- A. Crunteanu, J. Givernaud, J. Leroy, D. Mardivirin, C. Champeaux, J.C. Orlianges, A. Catherinot, P. Blondy. Sci. Technol. Adv. Mater., 11, 065002 (2010). DOI: 10.1088/1468-6996/11/6/065002
- F. Glas. Phys. Rev. B, 74, 121302 (2006). DOI: 10.1103/PhysRevB.74.121302
- Y. Zhang, W. Xiong, W. Chen, Y. Zheng. Nanomaterials, 11, P. 338 (2021). DOI: 10.3390/nano11020338
- P. Iqbal, J.A. Preece, P.M. Mendes. Supramolecular Chemistry: From Molecules to Nanomaterials (John Wiley \& Sons, Hoboken, 2012)
- S. Ji, F. Zhang, P. Jin, Sol. Energy Mater Sol. Cells, 95, 3520 (2011). DOI: 10.1016/j.solmat.2011.08.015
- M. Li, X. Wu, L. Li, Y. Wang, D. Li, J. Pan, S. Li, L. Sun, G. Li, J. Mater. Chem. A, 2, 4520 (2014). DOI: 10.1039/C3TA14822J
- W.M. Xiong, J. Shao, Y.Q. Zhang, Y. Chen, X.Y. Zhang, W.J. Chen, Y. Zheng. Phys. Chem. Chem. Phys., 20, 14339 (2018). DOI: 10.1039/C7CP08432C
- L. Petit, N. Carlie, A. Humeau, G. Boudebs, H. Jain, A.C. Miller, K. Richardson. Mater. Res. Bull., 42, 2107 (2007). DOI: 10.1016/j.materresbull.2007.09.013
- S.V. Mutilin, V.Ya. Prinz, V.A. Seleznev, L.V. Yakovkina. Appl. Phys. Lett., 113, 043101 (2018). DOI: 10.1063/1.5031075
- V.Ya. Prinz, S.V. Mutilin, L.V. Yakovkina, A.K. Gutakovskii, A.I. Komonov. Nanoscale, 12, 3443 (2020). DOI: 10.1039/C9NR08712E
- A. Kumar, S.N. Ghosh, S. Talukder, D. Chopra. ES Mater. Manuf., 23, 974 (2024). DOI: 10.30919/esmm974
- K. Appavoo, D.Y. Lei, Y. Sonnefraud, B. Wang, S.T. Pantelides, S.A. Maier, R.F. Haglund. Nano Lett., 12, 780 (2012). DOI: 10.1021/nl203782y
- E.U. Donev, R. Lopez, L.C. Feldman, R.F. Haglund. Nano Lett., 9, 702 (2009). DOI: 10.1021/nl8031839
- W. Zhang, X. Wu, W. Wang, K. Zhang, B. Li, Y. Chen. ACS Appl. Electron. Mater., 4, 2101 (2022). DOI: 10.1021/acsaelm.2c00257
- A.I. Komonov, N.D. Mantsurov, B.V. Voloshin, V.A. Seleznev, S.V. Mutilin. Appl. Surf. Sci., 658, 159869 (2024). DOI: 10.1016/j.apsusc.2024.159869
- Y.K. Ryu, R. Garcia. Nanotechnology, 28, 142003 (2017). DOI: 10.1088/1361-6528/aa5651
- K.E. Kapoguzov, S.V. Mutilin, N.I. Lysenko, V.N. Kichay, L.V. Yakovkina, B.V. Voloshin, V.A. Seleznev. Physica E, 167, 116165 (2025). DOI: 10.1016/j.physe.2024.116165
- A.I. Komonov, N.D. Mantsurov, B.V. Voloshin, V.A. Seleznev, S.V. Mutilin. in: Young Prof. (Ed.), IEEE 23nd Int. Conf. Electron Devices Mater IEEE, P. 20-24 (2022). DOI: 10.1109/EDM55285.2022.9855164
- Н.Д. Манцуров, А.И. Комонов, С.В. Мутилин, В.Н. Кичай, Л.В. Яковкина. ДАН ВШ РФ, 1, 48 (2024). DOI: 10.17212/1727-2769-2024-1-48-61 [N.D. Mantsurov, A.I. Komonov, S.V. Mutilin, V.N. Kichay, L.V. Yakovkina, Proceed. RHEAS, 1, 48 (2024). DOI: 10.17212/1727-2769-2024-1-48-61]
- Н.Д. Манцуров, А.И. Комонов, Б.В. Волошин. Тез. докл. 17-й Всеросс. Науч. конф. молодых ученых "Наука. Технологии. Инновации" (Новосибирск, Россия, 2023)
- N.D. Mantsurov, A.I. Komonov, B.V. Voloshin, V.A. Seleznev, S.V. Mutilin. in: Young Prof. (Ed.), IEEE 25nd Int. Conf. Electron Devices Mater IEEE, P. 250-254 (2024). DOI: 10.1109/EDM61683.2024.10615063
- K. Henkel, H. Gargouri, B. Gruska, M. Arens, M. Tallarida, D. Schmeiber. J. Vac. Sci. Technol. A, 32, 01A107 (2014). DOI: 10.1116/1.4831897
- J. Haeberle, K. Henkel, H. Gargouri, F. Naumann, B. Gruska, M. Arens, M. Tallarida, D. Schmeiber. Beilstein J. Nanotechnol., 4, 732 (2013). DOI: 10.3762/bjnano.4.83
- A. Mahmoodinezhad, C. Janowitz, F. Naumann, P. Plate, H. Gargouri, K. Henkel, D. Schmeiber, J.I. Flege. J. Vac. Sci. Technol. A. American Vacuum Society, 38, 022404 (2020). DOI: 10.1116/1.5134800
- T. Blanquart, J. Niinisto, M. Gavagnin, V. Longo, M. Heikkila, E. Puukilainen, V.R. Pallem, C. Dussarrat, M. Ritala, M. Leskela. RSC Adv., 3, 1179 (2013). DOI: 10.1039/C2RA22820C
- G. Rampelberg, M. Schaekers, K. Martens, Q. Xie, D. Deduytsche, B. Schutter, N. Blasco, J. Kittl, C. Detavernier. Appl. Phys. Lett., 98, 162902 (2011). DOI: 10.1063/1.3579195
- G. Silversmit, D. Depla, H. Poelman, G.B. Marin, R. De Gryse. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 135, 167 (2004). DOI: 10.1016/j.elspec.2004.03.004
- D. Necas, P. Klapetek. Cent. Eur. J. Phys., 10, 181 (2012). DOI: 10.2478/s11534-011-0096-2
- P. Schilbe. Phys. B: Condens. Matter, 316-317, 600 (2002). DOI: 10.1016/S0921-4526(02)00584-7
- F. Urena-Begara, A. Crunteanu, J.P. Raskin. Appl. Surf. Sci., 403, 717 (2017). DOI: 10.1016/j.apsusc.2017.01.160
- K.E. Kapoguzov S.V. Mutilin V.Y. Prinz. in: Young Prof. (Ed.), IEEE 22nd Int. Conf. Electron Devices Mater IEEE, P. 58-61 (2021). DOI: 10.1109/EDM52169.2021.9507652
- R.G. Keil, R.E. Salomon. J. Electrochem. Soc., 112, 643 (1965). DOI: 10.1149/1.2423631