Вышедшие номера
Рентгенодифракционное исследование дислокационной структуры в системах молекулярно-лучевой эпитаксии с высоким уровнем несоответствия параметров решеток
Кютт Р.Н.1, Сорокин Л.М.1, Аргунова Т.С.1, Рувимов С.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 25 марта 1994 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1994 г.

Трехкристальной рентгеновской дифрактометрией и просвечивающей электронной микроскопией исследованы закономерности дефектообразования в гетерокомпозициях с большим уровнем несоответствия параметров решетки пленки и подложки: GaAs/Si (Delta a/a=4%), GaSb/GaAs (Delta a/a=8%), InSb/GaAs(Delta a/a=16%). Измерены значения полуширин рентгеновских отражений в двух ортогональных направлениях: параллельно и перпендикулярно вектору дифракции для нескольких порядков отражения и разной геометрии дифракции. Установлено, что для всех исследованных систем уширение кривых отражения пленки в поперечном направлении (w normal ) заметно больше, чем в продольном (w||). Электронная микроскопия выявила несколько областей с различной плотностью дислокаций по толщине эпитаксиального слоя. Установлено соответствие между полученными дифракционными закономерностями и дислокационной структурой эпитаксиального слоя (без учета тонкой области вблизи границы раздела).